[發(fā)明專利]曝光機及曝光方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010176633.3
• 申請日: 2020-03-13
• 公開（公告）號: CN113391521A
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發(fā)明（設計）人: 鄒斌
• 申請（專利權(quán)）人: 長鑫存儲技術(shù)有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海晨皓知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 31260
• 代理人: 成麗杰

1.一種曝光機，其特征在于，包括：

檢測模塊，所述檢測模塊用于檢測掩膜板表面是否存在附著物；

清潔裝置，所述清潔裝置用于對所述掩膜板表面的所述附著物進行清潔；

曝光模塊，所述曝光模塊用于對檢測到不存在所述附著物的所述掩膜板進行曝光作業(yè)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機，其特征在于，所述清潔裝置包括殼體和設置在所述殼體上的支撐架，所述支撐架上設置有用于對所述掩膜板進行清潔的氣體噴頭；

所述氣體噴頭用于朝向所述掩膜板噴氣以進行清潔。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光機，其特征在于，所述清潔裝置對所述掩膜板進行清潔時，所述氣體噴頭的噴氣方向與所述掩膜板的夾角大于5°且小于85°。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光機，其特征在于，所述夾角為45°。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光機，其特征在于，所述清潔裝置還包括與所述氣體噴頭相連的氣流控制裝置，所述氣流控制裝置用于控制所述氣體噴頭所噴出的氣流的流速。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光機，其特征在于，所述氣體噴頭的數(shù)量為多個，多個所述氣體噴頭相對設置在所述支撐架上；

所述清潔裝置對所述掩膜板進行清潔時，多個所述氣體噴頭分別朝向所述掩膜板的兩個相對的表面進行吹氣。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的曝光機，其特征在于，所述氣體噴頭之間的間隔范圍為0.5～10mm，所述氣體噴頭為圓柱狀，所述圓柱狀氣體噴頭的底面直徑范圍為0.5～15mm，所述圓柱狀氣體噴頭的長度范圍為0.5～20mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的曝光機，其特征在于，每個所述氣體噴頭的噴氣方向與所述掩膜板的夾角相同且位于15～25°之間；所述噴氣方向上的所述殼體側(cè)面上設置有排氣口。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的曝光機，其特征在于，所述氣體噴頭所噴出的氣流為脈沖氣流，所述排氣口采用脈沖抽氣的方式對所述清潔裝置內(nèi)的氣體抽氣，所述脈沖氣流的脈沖與所述脈沖抽氣的脈沖同步或間隔固定時間。

10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光機，其特征在于，所述清潔裝置還包括電性檢測組件和氣體調(diào)節(jié)組件；

所述電性檢測組件用于檢測所述附著物的電性種類；

所述氣體調(diào)節(jié)模塊用于調(diào)節(jié)所述氣體噴頭所噴出的氣體的電性種類與所述附著物的電性相反。

11.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光機，其特征在于，所述氣體的種類為清潔的空氣或氮氣。

12.一種曝光方法，其特征在于，應用于權(quán)利要求1至11中任一項所述的曝光機，包括：

移動掩膜板至檢測模塊；

對所述掩膜板進行檢測，判斷所述掩膜板的表面是否存在附著物；

若所述掩膜板的表面不存在附著物，移動所述掩膜板至曝光模塊進行曝光作業(yè)；

若所述掩膜板的表面存在附著物，經(jīng)由所述清潔裝置對所述掩膜板進行清潔、并再次對所述掩膜板的表面進行檢測。