[發明專利]具有結構化裝飾的陶瓷基時計或珠寶部件

在審

• 申請號: 202010175975.3
• 申請日: 2020-03-13
• 公開（公告）號: CN111694262A
• 公開（公告）日: 2020-09-22
• 發明（設計）人: F.吉恩諾;G.基斯林
• 申請（專利權）人: 奧米加股份有限公司
• 主分類號: G04D3/00
• 分類號: G04D3/00;G04D3/02;A44C27/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 鄒松青;王麗輝

1.一種用于制造具有結構化裝飾的陶瓷基時計或珠寶部件的方法，其特征在于，基本循環被執行至少一次，所述基本循環以如下順序包括以下步驟：

-在初始操作(100)中，從由陶瓷材料制成的襯底來制造基部(1)；

-在第一拋光操作(200)中，至少在旨在由用戶看到的表觀表面(10)上鏡面拋光所述基部(1)；

-在第二加工操作(300)中，執行激光加工和/或使用金剛石工具的機械加工和/或研磨加工，以產生至少一些結構化表面的第一精細圖案蝕刻，所述結構化表面具有在峰(21)和谷(22)之間延伸的表面浮雕(20)，或璣鏤、或太陽紋、或刻花、或雕刻、或包釉、或絞絲、或圓紋、或天緞、或緞紋、或繪制、或凹邊飾面、或日內瓦紋、或巴黎釘紋；

-在第一制備操作(400)中，執行第一涂覆操作(500)，其中表面浮雕(20)的至少一部分涂覆有第一金屬裝飾處理和/或著色裝飾處理材料的至少第一層(2)的第一厚度(E)，并且在所述第一涂覆操作(500)之前或之后執行第二加工操作(600)，在所述第二加工操作期間，執行深蝕刻以產生具有大于所述第一厚度(E)的深度(P)并且穿入所述基部(1)到所述表觀表面(10)下方和所述表面浮雕的所述谷(22)下方的第一中空裝飾(3)；

-在第三加工操作(700)中，在所述第一層(2)上在凹坑(4)中執行激光燒蝕，在所述凹坑的底部處，所述基部(1)的陶瓷材料被暴露；

-在第三加工操作(700)之后，執行第二涂覆操作(800)，其中，所述部件的所有可見表面都涂覆有第二處理材料的第二層(5)的沉積物。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述第一制備操作(400)期間，所述第一涂覆操作(500)在所述第二加工操作(600)之前執行。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述第一制備操作(400)期間，所述第二加工操作(600)在所述第二涂覆操作(500)之前執行。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述第三加工操作(700)期間，在所述基部(1)的陶瓷材料中繼續加工至少一個所述凹坑(4)。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述第二涂覆操作(800)之后，在第四加工操作(900)中，在所述第二層(5)上在凹坑中執行激光燒蝕，在所述凹坑的底部處暴露所述基部(1)的陶瓷材料或所述第一層(2)的第一處理材料。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，在所述第四加工操作(700)之后，執行迭代，其中每次執行涂覆操作，其中通過先前操作留下可見的所有表面被涂覆有另一處理材料的另一層的沉積物，然后在新層上在凹坑中執行激光燒蝕，在凹坑的底部處，所述基部的陶瓷材料、或所述第一層的第一處理材料、或在所述新層下面的一層的材料被暴露。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在最后的加工操作之后，執行最后的涂覆操作，其中，所述部件的所有可見表面在干法工藝中或在PVD或CVD或ALD工藝中、或在上漆或噴涂清漆工藝中用透明處理材料(5)的透明沉積物進行涂覆。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在最后的加工操作之后，執行最后的操作，其中，在干法工藝中或在PVD或CVD或ALD工藝或上漆或噴涂清漆工藝中利用著色透明沉積物在所述部件的可見表面上執行半透明著色處理。

9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一層(2)被選擇為具有與所述基部的所述陶瓷材料相同的顏色。

10.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，所述第一層(2)被選擇為具有比所述基部的所述陶瓷材料的著色顏料密度更高的著色顏料密度。

11.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，包括在所述部件中的所有疊置層被選擇成具有與所述基部的所述陶瓷材料相同的顏色。