[發明專利]一種面向產品裝配工藝的非均勻樣本均衡化方法及系統

有效

• 申請號: 202010175032.0
• 申請日: 2020-03-13
• 公開（公告）號: CN111353551B
• 公開（公告）日: 2020-12-08
• 發明（設計）人: 冷杰武;阮國磊;劉強;張定;嚴都喜
• 申請（專利權）人: 廣東工業大學
• 主分類號: G06K9/62
• 分類號: G06K9/62;G06Q50/04
• 代理公司: 佛山市禾才知識產權代理有限公司 44379
• 代理人: 朱培祺;資凱亮

1.一種面向產品裝配工藝的非均勻樣本均衡化方法，以產品的裝配工藝流程拓撲結構作為樣本，不同款式的同種產品的裝配工藝流程拓撲結構為不同的樣本，其特征在于，包括以下步驟：

步驟A，計算不同樣本之間的相似度；

步驟B，構建表示所有樣本之間相似度的模糊相容矩陣S，通過模糊相容矩陣S來構建具有不同粒層的模糊相容空間X，通過所述模糊相容空間X對所有樣本進行聚類，所述模糊相容空間X是根據樣本之間的相似度分成多個不同的粒層；

步驟C，基于粒計算的方式從所述模糊相容空間X中篩選出信息增量和樣本間相似度的綜合值最大的粒層作為最優粒層；

步驟D，對最優粒層的樣本進行均衡化處理；

所述步驟D具體包括：

步驟D1，計算最優粒層C(λ_o)中每個樣本粒子G_i的平均樣本數量

其中，設定閾值λ，閾值λ的取值分別為λ₁,λ₂,λ₃,...,λ_n,且有1＝λ₁＞λ₂＞λ₃＞...＞λ_n＝0,G_i，k為粒層C(λ_i)中第k個樣本粒子；|G_i，k|為第k個樣本粒子中所含有的樣本的個數；g表示粒層C(λ_i)中的樣本粒子個數；

步驟D2，對最優粒層C(λ_o)中每個樣本粒子G_i采用隨機抽樣的方法進行樣本數量的擴充和刪減，使得每一個樣本粒子G_i中的樣本個數相同，完成均衡化處理：

若則將樣本粒子G_i，k多出的樣本隨機剔除，使樣本粒子G_i，k的樣本個數|G_i，k|下降至

若則將樣本粒子G_i，k中原有的樣本重新復制到樣本粒子G_i，k，使樣本粒子G_i，k的樣本個數|G_i，k|增加至

2.根據權利要求1所述的面向產品裝配工藝的非均勻樣本均衡化方法，其特征在于，所述步驟A具體包括：

步驟A1，計算不同樣本之間的節點相似度：

其中，i表示第i款的同種產品，j表示第j款的同種產品，S_node(v_i,v_j)表示第i款的同種產品的裝配工藝流程拓撲結構v_i和第j款的同種產品的裝配工藝流程拓撲結構v_j的節點相似度；m_i，j表示所述裝配工藝流程拓撲結構v_i和所述裝配工藝流程拓撲結構v_j中的節點匹配數量；e_i表示所述裝配工藝流程拓撲結構v_i中所有節點數量之和；e_j表示所述裝配工藝流程拓撲結構v_j中所有節點數量之和；

步驟A2，計算不同樣本之間的拓撲關系相似度：

其中，S_rel(v_i,v_j)表示第i款的同種產品的裝配工藝流程拓撲結構v_i和第j款的同種產品的裝配工藝流程拓撲結構v_j的拓撲關系相似度；M_i，j表示所述裝配工藝流程拓撲結構v_i和所述裝配工藝流程拓撲結構v_j中的關系邊匹配數量；E_i表示所述裝配工藝流程拓撲結構v_i中所有關系邊數量之和；E_j表示所述裝配工藝流程拓撲結構v_j中所有關系邊數量之和；

步驟A3，計算不同樣本之間的拓撲結構相似度：

S(i,j)＝S_node(v_i,v_j)×W_node+S_rel(v_i,v_j)×W_rel，

其中，S(i,j)表示第i款的同種產品的裝配工藝流程拓撲結構v_i和第j款的同種產品的裝配工藝流程拓撲結構v_j的拓撲結構相似度，W_node為預設的節點權重參數，W_rel為預設的關系邊權重參數。