[發明專利]用于碳納米管薄膜生產設備的霧化裝置在審
| 申請號： | 202010174903.7 | 申請日： | 2020-03-13 |
| 公開（公告）號： | CN111282763A | 公開（公告）日： | 2020-06-16 |
| 發明（設計）人： | 何占宇;沈健民;曾培源;李建穩;王帝 | 申請（專利權）人： | 沈健民 |
| 主分類號： | B05B17/06 | 分類號： | B05B17/06;B05B15/00;C01B32/158;C01B32/168 |
| 代理公司： | 北京科家知識產權代理事務所(普通合伙) 11427 | 代理人： | 陳娟 |
| 地址： | 239000 安徽省滁州*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 納米 薄膜 生產 設備 霧化 裝置 | ||
1.用于碳納米管薄膜生產設備的霧化裝置，其特征在于：包括原料存儲單元、輸液單元和設置在反應腔體前端的霧化單元；
所述原料存儲單元用于存儲制備碳納米管的原料；
所述輸液單元用于將存儲在原料存儲單元的原料輸送至霧化單元；
所述霧化單元用于將制備碳納米管的原料霧化并通過載氣輸送到反應腔。
2.根據權利要求1所述的用于碳納米管薄膜生產設備的霧化裝置，其特征在于：所述原料存儲單元包括儲料罐和磁力攪拌裝置；
所述儲料罐頂部設置有用于向儲料罐內添加原料的加料口，所述儲料罐頂部靠近加料口的一側設置有用于將原料轉移出儲料罐的出料口；
所述磁力攪拌裝置設置于儲料罐的底部并且磁力攪拌裝置的攪拌部位于儲料罐內對其內部的原料進行攪拌。
3.根據權利要求2所述的用于碳納米管薄膜生產設備的霧化裝置，其特征在于：所述儲料罐容量不低于1000ml。
4.根據權利要求2所述的用于碳納米管薄膜生產設備的霧化裝置，其特征在于：所述輸液單元由電機驅動的蠕動泵與輸液管道組成，所述輸液管道分別與儲料罐的出料口和霧化單元連通，所述蠕動泵設置于輸液管道上。
5.根據權利要求4所述的用于碳納米管薄膜生產設備的霧化裝置，其特征在于：所述輸液單元可對原料進行加壓，經過蠕動泵加壓后的液體壓力為0.1-0.3MP。
6.根據權利要求4所述的用于碳納米管薄膜生產設備的霧化裝置，其特征在于：所述霧化單元包括霧化準備室、外殼和霧化噴頭；
所述霧化準備室的進口與輸液管道相連通，所述霧化準備室的進口通過管道連接霧化噴頭，所述霧化噴頭位于外殼內的頂部，所述外殼內還設置有用于供載氣流通的載氣流通通道，所述霧化噴頭噴出設定大小的原料液滴，隨后由載氣吹送至反應腔。
7.根據權利要求6所述的用于碳納米管薄膜生產設備的霧化裝置，其特征在于：所述霧化噴頭為可控制噴出液滴的大小的微壓電噴頭。
8.根據權利要求7所述的用于碳納米管薄膜生產設備的霧化裝置，其特征在于：所述霧化噴頭通過電磁控制，通過調節電磁閥來調節噴頭噴出的液滴大小。
9.根據權利要求8所述的用于碳納米管薄膜生產設備的霧化裝置，其特征在于：所述霧化噴頭通過電磁閥來調節噴出的液滴大小范圍為2x 10-12-17x 10-12升。
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