[發(fā)明專利]自適應視場的X射線裝置及自適應調(diào)整視場的方法

在審

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• 申請日: 2020-03-13
• 公開（公告）號: CN111272782A
• 公開（公告）日: 2020-06-12
• 發(fā)明（設計）人: 彭晟
• 申請（專利權）人: 彭晟
• 主分類號: G01N23/04
• 分類號: G01N23/04
• 代理公司: 江蘇英特東華律師事務所 32229
• 代理人: 邵驊

本發(fā)明公布了一種自適應視場的X射線裝置，包括球管、與所述球管相對設置的X射線探測器和樣品托盤；樣品托盤設置在可升降的托盤支架上；所述托盤支架通過升降控制裝置控制升降高度；所述X射線裝置上設置有用于檢測樣品直徑大小的樣品檢測裝置。以及自適應調(diào)整視場的方法。本發(fā)明根據(jù)樣品直徑與樣品托架升降高度的關系，通過樣品檢測裝置檢測樣品直徑，然后升降控制裝置控制托盤支架升降至設定的高度，使得樣品在X射線探測器上的投影與X射線探測器極限視界相匹配，充分的覆蓋X射線探測器。從而實現(xiàn)視場的自適應調(diào)整，充分利用X射線探測器的成像能力。

技術領域

本發(fā)明屬于檢測設備技術領域，特別是涉及一種有效利用成像范圍的自適應視場的X射線裝置及自適應調(diào)整視場的方法。

背景技術

在X射線檢測設備領域，X射線發(fā)生器產(chǎn)生X射線以后，X射線穿透被照射物體，之后照射到探測器上，最后通過影像系統(tǒng)得到圖像。在這個過程中，被照射物體需要被照射的部分需要完全處于X射線的照射范圍內(nèi)。從X射線發(fā)生器到X射線探測器的X光路徑一般是立方錐形的結(jié)構。故，在不同的光路位置上，被照射物體的最大可拍攝尺寸是不同的。在傳統(tǒng)的X射線設備中，被照射物體和X射線探測器之間的位置相對比較固定，或者只有幾個可以選擇的位置。當被照射物體的尺寸比相應位置的最大可拍攝尺寸小很多的時候，X射線探測器的可用成像范圍只被利用了一小部分，成像能力不能被充分使用。或者當被照射物體的尺寸比相應位置的最大可拍攝尺寸大的時候，X射線探測器并不能將被照射物體的影像全部拍攝到。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明目的在于針對現(xiàn)有X光檢測設備存在的缺陷，提供一種能夠根據(jù)樣品大小，有效利用探測器成像范圍的自適應視場的X射線裝置及自適應調(diào)整視場的方法。

本發(fā)明為實現(xiàn)上述目的，采用如下技術方案：

自適應視場的X射線裝置，包括球管、與所述球管相對設置的X射線探測器和樣品托盤；其特征在于：所述樣品托盤設置在可升降的托盤支架上；所述托盤支架通過升降控制裝置控制升降高度；所述X射線裝置上設置有用于檢測樣品直徑大小的樣品檢測裝置。由于樣品在X射線探測器上的投影直徑與樣品托盤至球管之間的距離有關，為了充分利用X射線探測器的成像能力，需要使樣品的投影直徑與X射線探測器極限視界相匹配。不同大小的樣品在X射線探測器上的投影可以通過調(diào)整樣品托盤的高度來調(diào)整。因此，通過樣品檢測裝置檢測樣品的直徑大小，然后根據(jù)樣品大小，升降控制裝置控制托盤支架升降至設定的高度，使得樣品在X射線探測器上的投影與X射線探測器極限視界相匹配。

一種形式：所述樣品檢測裝置為位于所述球管側(cè)的攝像頭，所述樣品托盤上具有長度刻度。通過攝像頭拍攝樣品托盤上的樣品照片，依據(jù)樣品托盤上刻度讀取樣品直徑大小數(shù)據(jù)，從而獲得樣品直徑大小，調(diào)整樣品托盤高度。

另一種形式：所述樣品檢測裝置為位于所述樣品托盤上的平面?zhèn)鞲衅鳌Ｍㄟ^平面?zhèn)鞲衅鳈z測樣品直徑大小，再根據(jù)樣品直徑大小調(diào)整樣品托盤高度。

還有一種形式：所述樣品檢測裝置為降至所述X射線探測器位置的所述樣品托盤。當樣品托盤降至X射線探測器位置時，樣品在X射線探測器上的投影大小等于樣品實際大小。使用時通過拍攝一張X光片，通過計算得到樣品的尺寸，然后再根據(jù)樣品直徑大小調(diào)整樣品托盤高度。

優(yōu)選的：所述托盤支架螺紋連接在由電機驅(qū)動的絲桿上。通過電機驅(qū)動絲桿轉(zhuǎn)動，帶動托盤支架平穩(wěn)升降。

所述電機固定在導軌支架內(nèi)，所述導軌支架兩側(cè)具有導軌，所述導軌上設置有滑塊，所述托盤支架兩側(cè)固定連接在所述滑塊上。將托盤支架設置在滑塊上，沿兩根導軌移動，可以使得托盤支架升降更加平穩(wěn)。

自適應調(diào)整視場的方法，采用上述的自適應視場的X射線裝置，其特征在于包括下述步驟：