[發(fā)明專利]清潔構件和包括光學打印頭的圖像形成裝置

有效

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• 申請日: 2020-03-13
• 公開（公告）號: CN111694242B
• 公開（公告）日: 2023-04-11
• 發(fā)明（設計）人: 巖井齊;細井慎一郎;石館毅洋;百家俊樹;有賀泰祐;福本亮太
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03G15/02
• 分類號: G03G15/02;G03G21/00
• 代理公司: 中國貿(mào)促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 宋巖

公開了清潔構件和包括光學打印頭的圖像形成裝置。清潔構件用在圖像形成裝置中并且被配置成被插入到該裝置中，該裝置包括保持基板和透鏡的保持體，該清潔構件包括：桿；在桿中提供以清潔每個透鏡的光出射面的清潔部；附接到桿的磁體，該磁體發(fā)射磁場以生成磁力從而將保持體吸引到該磁體，以使得清潔部維持與光出射面接觸；附接到桿并與磁體接觸的磁軛構件，該磁軛構件被配置成相對于磁體朝著部署有保持體的一側突出；以及接觸部，該接觸部被配置成與保持體接觸并且相對于磁軛構件朝著上述一側突出。

技術領域

本發(fā)明涉及用在包括光學打印頭的圖像形成裝置中的清潔構件，以及包括光學打印頭的圖像形成裝置。

背景技術

存在使用光學打印頭的圖像形成裝置，諸如打印機和復印機，該光學打印頭包括使感光鼓曝光的多個發(fā)光元件。存在光學打印頭，其使用發(fā)光二極管(LED)、有機電致發(fā)光器件(有機EL)等作為發(fā)光元件的示例。例如，多個發(fā)光元件沿著感光體的旋轉軸方向以單行或兩個交錯行對齊。此外，光學打印頭包括透鏡陣列，該透鏡陣列將從發(fā)光元件發(fā)射的光集中到感光鼓。透鏡陣列部署在發(fā)光元件和感光鼓之間以與感光鼓相對。從發(fā)光元件發(fā)射的光通過透鏡陣列被集中到感光鼓的表面。以上述方式在感光鼓上形成靜電潛像。

由于包括在光學打印頭中的透鏡陣列位于感光鼓附近，因此調色劑和諸如紙屑之類的異物傾向于附著到透鏡陣列的光出射面。當透鏡陣列的光出射面帶有異物而變得不干凈時，會導致圖像質量下降，諸如圖像不均勻。因而，已經(jīng)提出了清潔透鏡陣列的光出射面的設備。日本專利特許公開No.2019-3113中公開了清潔設備的示例。

在日本專利特許公開No.2019-3113中公開的光學打印頭的殼體(保持體)中形成有突出部，并且在清潔構件中形成的接合部與該突出部接合。通過使在清潔構件中形成的接合部和在保持體中形成的突出部彼此接合，維持在清潔構件中形成的摩擦部(清潔部)和透鏡陣列的光出射面彼此接觸的狀態(tài)。清潔部可以通過使操作者在清潔構件中形成的接合部和保持體中形成的突出部彼此接合的同時將清潔構件插入圖像形成裝置的主體中以及從圖像形成裝置的主體中移除來可靠地清潔透鏡的光出射面。

通過使光學打印頭的保持體由金屬形成，可以提高保持體的剛性。但是，當保持體由金屬形成時，與由樹脂形成時相比，不容易將保持體的形狀加工成允許形成在清潔構件中的接合部與其接合的形狀。因而，已經(jīng)考慮當保持體由金屬形成時在清潔構件上提供磁體(magnet)。使用將磁體和保持體彼此拉近的力來維持清潔構件的清潔部與透鏡陣列的光出射面彼此接觸的狀態(tài)。在清潔構件中提供了磁軛(yoke)，以控制從磁體發(fā)射的磁通的朝向。由于磁軛在清潔構件中提供以便與磁體接觸，因此磁軛被磁體發(fā)射的磁通磁化。當清潔構件從圖像形成裝置的主體的外部插入時，上述的磁軛與保持體接觸。在保持體和磁軛相互吸引并彼此接觸的同時，用戶將清潔構件插入圖像形成裝置的主體中以及從圖像形成裝置的主體中移除。

但是，當在磁軛和金屬保持體彼此接觸的同時將清潔構件插入圖像形成裝置的主體中以及從圖像形成裝置的主體中移除時，磁軛的表面和保持體的表面可能被刮擦。

發(fā)明內(nèi)容