[發明專利]一種耐熱、可降解的輻射制冷薄膜及其制備方法和用途

有效

• 申請號: 202010172445.3
• 申請日: 2020-03-12
• 公開（公告）號: CN111334012B
• 公開（公告）日: 2022-02-08
• 發明（設計）人: 陳劍洪;唐仕成;莊子哲;劉躍軍;鐘海長;鄭偉;陳曦
• 申請（專利權）人: 廈門理工學院
• 主分類號: C08L67/04
• 分類號: C08L67/04;C08K13/02;C08K3/36;C08K5/544;C08K5/3475;C08K5/20;C08K5/52;C08J5/18;C08J7/06;C23C14/10;C23C14/20;C23C14/35
• 代理公司: 廈門智慧呈睿知識產權代理事務所(普通合伙) 35222
• 代理人: 陳槐萱

1.一種耐熱、可降解的輻射制冷薄膜，其特征在于，包括依次設置的輻射制冷層、反射層和保護層，其中，所述輻射制冷層包括聚乳酸基體以及分散于所述聚乳酸基體中的制冷微粒和選擇性成核劑，所述聚乳酸基體包括聚L-乳酸與聚D-乳酸的熔融混合物、光穩定劑和偶聯劑，所述反射層為金屬層，其中，所述選擇性成核劑為含水滑石的磷酸酯的鋁配合物、多壁碳納米管接枝的聚乳酸、苯基磷酸鋅、對二甲苯雙烷基脲或商用TMB-5成核劑中的至少一種；所述制冷微粒為二氧化硅、三氧化二鋁、二氧化鈦或碳化硅中的至少一種；按照重量份數計，所述輻射制冷層包括聚L-乳酸50-85份、聚D-乳酸15-50份、選擇性成核劑0.1-1份、制冷微粒2-19份、光穩定劑0.1-1份和偶聯劑0.02-0.19份。

2.根據權利要求1所述的耐熱、可降解的輻射制冷薄膜，其特征在于，所述輻射制冷層厚度為35-80μm。

3.根據權利要求1所述的耐熱、可降解的輻射制冷薄膜，其特征在于，所述聚L-乳酸和聚D-乳酸的質量比為1-5.67:1。

4.根據權利要求1所述的耐熱、可降解的輻射制冷薄膜，其特征在于，所述反射層為鍍銀，其厚度為0.08-0.25μm。

5.根據權利要求1所述的耐熱、可降解的輻射制冷薄膜，其特征在于，所述保護層為氧化硅鍍層，其厚度為0.04-0.18μm。

6.根據權利要求1所述的耐熱、可降解的輻射制冷薄膜，其特征在于，所述偶聯劑為硅烷偶聯劑KH550，KH560，KH570中的至少一種，含量為所述制冷微粒重量的0.5-1wt％；

所述光穩定劑為UV326、UV329、UV1164、UV5050、SORB2020、UV-P中的至少一種。

7.一種權利要求1-6任一項所述的耐熱、可降解的輻射制冷薄膜的制備方法，其特征在于，其包括：

S1，預處理：干燥聚L-乳酸和聚D-乳酸，并通過偶聯劑對制冷微粒進行表面處理得到預處理制冷微粒；

S2，混料：將干燥后的聚L-乳酸和聚D-乳酸混合并加熱至60-70℃，攪拌下依次加入選擇性成核劑、光穩定劑和預處理制冷顆粒，并繼續攪拌15-30min，測定水含量低于0.1wt％時，出料得混合物；

S3，擠出造粒：將上述混合物加入雙螺桿擠出機進行加工，其中，螺桿長徑比為30-60:1，擠出機溫度為200-210℃，螺桿轉速為50-300rpm，經水冷、切粒和干燥得到母粒；

S4，流延成膜：將所述母粒投入流延機中，通過T型模口流延至激冷輥上成膜得到流延膜，其中，流延溫度為220-230℃，螺桿轉速20-80rpm，激冷輥溫度為20-60℃；

S5，在所述流延膜上鍍膜制得反射層和保護層。

8.一種如權利要求1-6任一項所述的耐熱、可降解的輻射制冷薄膜的用途，其特征在于，用于車衣、座椅罩、建筑物、線纜、基站、戶外帳篷。