[發(fā)明專利]工具機調(diào)整方法與其調(diào)整系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010172021.7 | 申請日: | 2020-03-12 |
| 公開(公告)號: | CN113204211A | 公開(公告)日: | 2021-08-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郭晨暉;侯天祐;孫嘉呈;蓋震宇;林勇志 | 申請(專利權(quán))人: | 財團法人工業(yè)技術(shù)研究院 |
| 主分類號: | G05B19/404 | 分類號: | G05B19/404 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 李芳華 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 工具機 調(diào)整 方法 與其 系統(tǒng) | ||
1.一種工具機調(diào)整方法,用以調(diào)整一工具機,其特征在于,包括:
使所述工具機開始一循圓測試;
由一測量儀器取得一測量誤差量Em,且所述測量誤差量Em是由所述工具機執(zhí)行所述循圓測試時實際循圓軌跡與預(yù)設(shè)循圓軌跡之差異所決定;
由所述測量誤差量Em,判斷所述工具機的誤差狀況;
判斷所述誤差狀況是否小于一設(shè)定目標(biāo),若否則依所述誤差狀況決定一補償參數(shù),以及設(shè)定所述補償參數(shù)以使所述工具機依所設(shè)定之所述補償參數(shù)開始另一循圓測試并重復(fù)上述步驟,直到判斷所述誤差狀況小于一設(shè)定目標(biāo);以及
若判斷所述誤差狀況小于所述設(shè)定目標(biāo),結(jié)束所述循圓測試,并完成調(diào)整所述工具機。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工具機調(diào)整方法,其特征在于,由所述測量誤差量Em判斷所述工具機的誤差狀況的步驟包括:
由所述測量誤差量Em,計算半徑偏差量Rd與軸偏置量Ad;
由所述半徑偏差量Rd與所述軸偏置量Ad,計算修正后軸座標(biāo)值;以及
由修正后軸座標(biāo)值,計算修正誤差量Ec,其中,
所述測量誤差量Em由所述工具機執(zhí)行所述循圓測試時的所述實際循圓軌跡的實際半徑ra與在開始所述循圓測時前所設(shè)定之所述預(yù)設(shè)循圓軌跡的預(yù)設(shè)半徑rd二者之差值所決定;
所述半徑偏差量n為取得所述測量誤差量的次數(shù);
所述軸偏置量Em’為所述測量誤差量Em的單軸分量;
所述修正后軸座標(biāo)值可透過下列公式計算:
修正后第1軸座標(biāo)值x′1=-第1軸偏置量Ad1+(所述預(yù)設(shè)半徑rd+所述測量誤差量Em–所述半徑偏差量Rd)×cosθ,
修正后第2軸座標(biāo)值x′2=-第2軸偏置量Ad2+(所述預(yù)設(shè)半徑rd+所述測量誤差量Em–所述半徑偏差量Rd)×sinθ,
且θ介于0至360度之間;
以及
所述修正誤差量Ec可透過下列公式計算:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的工具機調(diào)整方法,其特征在于,由所述測量誤差量Em判斷所述工具機的誤差狀況的步驟還包括:
由所述修正誤差量Ec隨時間變化的一關(guān)系圖,找出所述工具機執(zhí)行所述循圓測試時的過象限起始時點A與尖角結(jié)束時點B;以及
取得所述修正誤差量Ec于過象限起始時點A時的A點誤差量EcA、所述修正誤差量Ec于所述尖角結(jié)束時點B時的B點誤差量EcB,并計算所述A點誤差量EcA與所述B點誤差量EcB的差值以得到所述工具機執(zhí)行所述循圓測試的背隙量,其中所述背隙量反應(yīng)所述工具機的所述誤差狀況。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的工具機調(diào)整方法,其特征在于,由所述測量誤差量Em判斷所述工具機的誤差狀況的步驟還包括:
取得所述修正誤差量Ec最大值的最大誤差量EcM;以及
計算所述最大誤差量EcM與所述B點誤差量EcB的差值以得到所述工具機執(zhí)行所述循圓測試的尖角突起量,其中所述尖角突起量反應(yīng)所述工具機的所述誤差狀況。
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