[發明專利]用于膜電極的制備系統

在審

• 申請號: 202010170703.4
• 申請日: 2020-03-12
• 公開（公告）號: CN111252479A
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 無錫先導智能裝備股份有限公司
• 主分類號: B65G29/00
• 分類號: B65G29/00;B65G47/248;B65G47/90;H01M8/1004
• 代理公司: 北京華進京聯知識產權代理有限公司 11606
• 代理人: 趙永輝

1.一種用于膜電極的制備系統，其特征在于，所述制備系統具有第一工位、第二工位、第三工位、第四工位及第五工位；所述制備系統包括：

機架；

旋轉件，繞其自身軸線可轉動地設置于所述機架，所述旋轉件具有粘貼位，且在所述旋轉件轉動的過程中所述粘貼位依次經過所述第一工位、所述第二工位、所述第三工位、所述第四工位及所述第五工位；

第一抓取機構，設置于所述機架，所述第一抓取機構用于將待加工片以及第一貼片依次疊放于位于所述第一工位的所述粘貼位；

第一粘貼設備，設置于所述機架，且位于所述第二工位，用于將所述第一貼片粘貼于所述待加工片；

翻轉設備，設置于所述機架，且位于所述第三工位，用于翻轉粘貼有所述第一貼片的所述待加工片；

第二抓取機構，設置于所述機架，所述第二抓取機構用于將第二貼片轉運至所述第四工位的所述粘貼位，以使所述第二貼片疊放于所述待加工片的背離所述第一貼片的另一側；及

第二粘貼設備，設置于所述機架，且位于所述第五工位，用于將所述第二貼片粘貼于所述待加工片。

2.根據權利要求1所述的用于膜電極的制備系統，其特征在于，所述制備系統還包括控制器、設置于所述第一抓取機構的第一檢測機構及設置于所述機架的第一檢測平臺，所述控制器分別與所述第一抓取機構及所述第一檢測機構電連接；

所述第一抓取機構將所述待加工片或所述第一貼片放置于所述第一檢測平臺；

所述第一檢測機構用于檢測位于所述第一檢測平臺的所述待加工片或所述第一貼片的位置信息和/或缺陷信息，所述控制器根據所述位置信息和/或缺陷信息控制所述第一抓取機構轉運所述第一檢測平臺上的所述待加工片或所述第一貼片。

3.根據權利要求2所述的用于膜電極的制備系統，其特征在于，所述制備系統還包括設置于所述第二抓取機構的第二檢測機構及設置于所述機架的第二檢測平臺，所述第二檢測機構與所述控制器電連接，所述第二檢測平臺位于所述旋轉件的一側；

所述第二抓取機構將所述第二貼片放置于所述第二檢測平臺，所述第二檢測機構用于檢測所述第二貼片，并獲取所述第二貼片的位置信息和/或缺陷信息，所述控制器根據所述位置信息和/或缺陷信息控制所述第二抓取機構轉運所述第二檢測平臺上的所述第二貼片。

4.根據權利要求1所述的用于膜電極的制備系統，其特征在于，所述旋轉件為轉盤，所述軸線為所述轉盤的中軸線，所述第一工位、所述第二工位、所述第三工位、所述第四工位及所述第五工位以所述中軸線為中心沿所述轉盤周向方向依次均勻間隔布設。

5.根據權利要求4所述的用于膜電極的制備系統，其特征在于，所述粘貼位的數量為五個，五個所述粘貼位沿所述轉盤的周向均勻間隔分布。

6.根據權利要求1所述的用于膜電極的制備系統，其特征在于，所述制備系統還包括設置于所述機架的成型設備，所述第一抓取機構用于將粘貼有所述第一貼片和所述第二貼片的所述待加工片輸送至所述成型設備，所述成型設備用于對粘貼有所述第一貼片和所述第二貼片的所述待加工片依次進行后處理以形成膜電極。

7.根據權利要求6所述的用于膜電極的制備系統，其特征在于，所述制備系統還包括設置于所述機架的阻抗檢測設備，所述阻抗檢測設備位于所述成型設備的下游側，所述阻抗檢測設備用于檢測所述膜電極的阻抗。

8.根據權利要求7所述的用于膜電極的制備系統，其特征在于，所述制備系統還包括設置于所述機架的氣密性檢測設備，所述氣密性檢測設備位于所述成型設備的下游側，所述氣密性檢測設備用于檢測所述膜電極的氣密性。

9.根據權利要求8所述的用于膜電極的制備系統，其特征在于，所述制備系統還包括設置于所述機架的移料機構，所述移料機構銜接于所述成型設備、所述阻抗檢測設備及所述氣密性檢測設備，用于將所述膜電極在所述成型設備、所述阻抗檢測設備及所述氣密性檢測設備之間轉運。

10.根據權利要求1所述的用于膜電極的制備系統，其特征在于，所述翻轉設備包括支撐架、吸附機構、第一連接組件及取料件；

所述吸附機構沿第三方向可往復移動地設置于所述支撐架且具有一用于吸附或釋放工件的第一吸附面；

所述第一連接組件沿與所述第三方向呈角度的第四方向可往復移動地設置于所述支撐架；

所述取料件繞垂直所述第三方向的轉動軸線可轉動地連接于所述第一連接組件，所述取料件具有用于吸附或釋放工件的第二吸附面，且所述取料件繞所述轉動軸線轉動過程中所述第二吸附面可與所述第一吸附面平行，所述取料件隨所述第一連接組件在所述第四方向移動過程中具有對齊位置和避讓位置；

當所述取料件處于所述對齊位置且所述第一吸附面與所述第二吸附面平行時，所述第一吸附面可與所述第二吸附面在所述第三方向上對齊；

當所述取料件處于所述避讓位置，所述吸附機構分別與所述第一連接組件及所述取料件在所述第三方向上相錯開。