[發(fā)明專利]彩膜基板及其制作方法和顯示面板

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• 申請日: 2020-03-12
• 公開（公告）號: CN111258110A
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳珍霞
• 申請（專利權(quán)）人: TCL華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1343
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 唐秀萍

1.一種彩膜基板，其特征在于，包括：一第一襯底基板和設(shè)于所述第一襯底基板上的黑矩陣；在相鄰的所述黑矩陣之間具有一開口區(qū)域，在所述開口區(qū)域設(shè)有公共電極；所述公共電極未設(shè)置在所述黑矩陣上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板還包括一光阻層，所述光阻層設(shè)置在所述第一襯底基板和所述黑矩陣之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述光阻層包括多個光阻單元，每一光阻單元的位置與所述開口區(qū)域相對應(yīng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板還包括一保護層，所述保護層設(shè)置在所述光阻層和所述公共電極之間，所述保護層用于對所述光阻層起到平整作用，并用于防止外界水汽進入膜層結(jié)構(gòu)中。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，在所述黑矩陣上設(shè)有隔墊物，所述隔墊物包括主要隔墊物和次要隔墊物，所述主要隔墊物的高度大于所述次要隔墊物的高度。

6.一種采用權(quán)利要求1所述的彩膜基板的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)提供一第一襯底基板；

(2)在所述第一襯底基板上形成呈網(wǎng)格狀分布的黑矩陣，在相鄰的所述黑矩陣之間形成一開口區(qū)域；

(3)在所述第一襯底基板和所述黑矩陣上涂布一公共電極材料，以形成公共電極層；

(4)在所述公共電極層上涂布光阻材料，以形成光阻層；以及

(5)通過光罩對光阻層進行圖形化處理，以去除涂布在所述黑矩陣上的光阻層和公共電極層，并且形成圖形化的公共電極，所述圖形化的公共電極位于所述開口區(qū)域。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述彩膜基板的制備方法，其特征在于，在執(zhí)行步驟(4)和(5)時，通過采用黑矩陣光罩對光阻層進行圖形化處理，其中光阻材料為正型光阻，所述黑矩陣光罩圖案包括主體部和輔助部，所述主體部包括多個長方形的第一框體，每一所述第一框體的位置對應(yīng)于設(shè)于所述光阻層上的像素電極，所述輔助部至少包括一個或多個非透明區(qū)，且所述輔助部的非透明區(qū)為沿每一所述第一框體的寬度或長度方向設(shè)置在每一所述第一框體周邊，且所述非透明區(qū)相互連通；其中，每一所述第一框體主體為非透明區(qū)，對應(yīng)于彩膜基板開口區(qū)域，每一所述第一框體周圍為透明區(qū)，對應(yīng)于彩膜基板的黑矩陣。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述彩膜基板的制備方法，其特征在于，在執(zhí)行步驟(4)和(5)時，通過一新增光罩以對光阻層進行圖形化處理，其中，光阻材料為負型光阻，所述新增光罩的圖案包括主體部和輔助部，所述主體部包括多個長方形的第一框體，每一所述第一框體的位置對應(yīng)于設(shè)于所述光阻層上的像素電極，所述輔助部至少包括一個或多個透明區(qū)，且所述輔助部的透明區(qū)為沿每一所述第一框體的寬度或長度方向設(shè)置在每一所述第一框體周邊，且所述透明區(qū)相互連通；其中，每一所述第一框體主體為透明區(qū)，對應(yīng)彩膜基板開口區(qū)域，每一所述第一框體周圍為非透明區(qū)，對應(yīng)于彩膜基板的黑矩陣。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述彩膜基板的制備方法，其特征在于，在執(zhí)行步驟(4)和(5)時，光阻材料為正型光阻，所述新增光罩的圖案包括主體部和輔助部，所述主體部包括多個長方形的第一框體，每一所述第一框體的位置對應(yīng)于設(shè)于所述光阻層上的像素電極，所述輔助部至少包括一個或多個非透明區(qū)，且所述輔助部的非透明區(qū)為沿每一所述第一框體的寬度或長度方向設(shè)置在每一所述第一框體周邊，所述非透明區(qū)相互連通；其中，每一所述第一框體主體為非透明區(qū)，對應(yīng)彩膜基板開口區(qū)域，每一所述第一框體周圍為透明區(qū)，對應(yīng)于彩膜基板的黑矩陣。