[發明專利]遠程噴氦法檢漏可控噴槍的進氣系統

有效

• 申請號: 202010169007.1
• 申請日: 2020-03-12
• 公開（公告）號: CN111365612B
• 公開（公告）日: 2021-07-27
• 發明（設計）人: 賀華艷;宋洪;王廣源;康玲
• 申請（專利權）人: 散裂中子源科學中心
• 主分類號: F17D1/02
• 分類號: F17D1/02;F17D3/01;G01M3/20
• 代理公司: 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245
• 代理人: 謝靜娜

本發明公開一種遠程噴氦法檢漏可控噴槍的進氣系統及其使用方法，進氣系統包括進氣總管、直徑不同的多個支管和出氣管，多個支管并聯設置于進氣總管和出氣管之間，進氣總管上設第一壓力傳感器，各支管上靠近出氣管之處設第二壓力傳感器；進氣總管外接氦源裝置，出氣管外接噴槍頭。其使用方法是通過設置多個不同直徑的支管，引入不同定量的氦氣，使其噴出的氦氣團能準確落入預設的范圍內，同時利用第一壓力傳感器和第二壓力傳感器檢測進氣處和出氣處的壓力值，確保每次噴出的氦氣量和持續時間恒定。本發明實現了氦氣在輸送過程中的流量和持續時間恒定一致，提高噴氦法檢漏的定量比較分析，有效比較判斷不同被檢處的漏孔大小和漏率，減小偶然誤差。

技術領域

本發明涉及真空系統檢漏技術領域，特別涉及一種遠程噴氦法檢漏可控噴槍的進氣系統。

背景技術

加速器真空系統中遇到的壓強都很低，要直接測量它們的壓力效應是極不容易的。檢漏是加速器真空獲得的一個重要步驟，在加速器真空系統中如果抽不到預定的極限真空，除了由于材料放氣及泵工作不正常外，最主要的原因是漏氣的存在。加速器真空系統常用的檢漏法有氦質譜儀檢漏法、四極質譜儀檢漏法以及真空計檢漏法。其中氦質譜儀檢漏法為定量測量，利用磁偏轉原理把不同質量數的氣體分離，用氦氣作為示漏氣體，通過離子收集及觀察氦離子流的大小來判斷系統是否有漏。氦質譜檢漏法分為常規噴氦法和正壓吸槍法，其中噴氦法由于操作簡單可靠被廣泛使用。

噴氦法檢漏過程中，對氦氣在每個檢漏位置的響應時間需要估算，若真空管道較長，氦信號出現的時間也比較慢，因為要花費必要的時間等待最大的漏信號出現，因此檢漏工作者噴氦操作中經常為似是而非的漏孔所困擾，大大影響了檢漏的效率和準確度。

而在目前的在實際檢漏操作中，所使用的氦源或者氦槍，常常在遠大于噴氦區域的空間形成了一個濃度及其梯度都不確定的氦濃度分布，難以實現漏點的準確定位和定量。在不同位置不同時間的氦氣，無法實現分布一致、濃度一致，導致無法進行多處漏點的比較和判斷。同時，氦源的濃度隨時間延長會造成不一致，氦質譜檢漏儀的反應也會出現較大的變化和變動，難以給出有效的漏孔大小的判斷。

發明內容

本發明的目的在于克服現有技術的不足，提供一種檢漏準確率高、檢漏效果更加理想且使用靈活度也高的遠程噴氦法檢漏可控噴槍的進氣系統。

本發明的另一目的在于提供一種上述遠程噴氦法檢漏可控噴槍的進氣系統的使用方法。

本發明的技術方案為：一種遠程噴氦法檢漏可控噴槍的進氣系統，包括進氣總管、直徑不同的多個支管和出氣管，多個支管并聯設置于進氣總管和出氣管之間，進氣總管上設有第一壓力傳感器，各支管上靠近出氣管之處分別設有第二壓力傳感器；進氣總管外接氦源裝置，出氣管外接噴槍頭。其中，通過設置不同直徑的支管來調節氦氣的輸入量，從而控制噴槍噴出的氦氣團大小，確保在小區域內的被檢設備表面的漏孔附件引入氦氣，提高檢漏的準確度。利用第一壓力傳感器和第二壓力傳感器實時測量和監控進氣處和出氣處的氦氣壓力，便于氦氣恒定壓力和恒定濃度的調節和控制，確保氦氣濃度隨時間恒定，可提高氦質譜儀反應和讀數的穩定性，精確控制的一定的噴氦時間和濃度流量，可用于大型設備多處漏點的比較判斷。

所述進氣總管的長度為進氣總管管徑的3倍以上，各支管的長度為相應支管管徑的3倍以上，出氣管的長度為出氣管管徑的3倍以上，可有效保證第一壓力傳感器和第二壓力傳感器測量數值的準確度。

所述出氣管為無氧銅管，出氣管的直徑根據該管道上所選電磁閥的通徑相應設定即可。出氣管采用無氧銅管，其目的是方便檢漏時可根據被檢測設備的需求進行現場折彎等操作，以使其與檢測空間相適應，提高使用的靈活度。

所述進氣總管為PVC管，進氣總管的直徑根據該管道上所選電磁閥的通徑相應設定即可。

所述支管有兩個，分別為PVC管；其中一個支管的直徑為另一支管直徑的1.5～3倍，各支管直徑的具體值也根據相應管道上所選電磁閥的通徑相應設定即可。