[發明專利]LED光源曝光系統及曝光機

在審

• 申請號: 202010165663.4
• 申請日: 2020-03-11
• 公開（公告）號: CN111158221A
• 公開（公告）日: 2020-05-15
• 發明（設計）人: 周學思
• 申請（專利權）人: 東莞市中譽光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種LED光源曝光系統，用于圖形轉移，包括發出紫外光的UV-LED光源組件、接收并透射UV-LED光源組件發出的所述紫外光的復眼組件及接收并反射經過所述復眼組件勻化的紫外光的曲面鏡，所述曲面鏡將接收的紫外光反射至底片表面以進行圖形轉移；其特征在于：所述復眼組件與曲面鏡之間設有平面反光裝置，所述平面反光裝置對復眼組件勻化的紫外光進行反射至曲面鏡，所述平面反光裝置包括角度可調的平面反光鏡和多個可移動設在平面反光鏡上表面的擋片。

2.根據權利要求1所述的LED光源曝光系統，其特征在于：所述平面反光裝置還包括控制擋片移動的機械手和控制機械手的控制器。

3.根據權利要求2所述的LED光源曝光系統，其特征在于：所述底片上方設置有光學圖像傳感器，所述光學圖像傳感器連接有中央處理器，所述光學圖像傳感器對經過曲面鏡反射之后照射到底片上的光斑圖像轉換成信號傳送至中央處理器，所述中央處理器對比分析之后輸出控制所述控制器，所述控制器控制所述機械手移動擋片。

4.根據權利要求3所述的LED光源曝光系統，其特征在于：所述平面反光鏡的四個方向上分別設置一個擋片，所述擋片可移動地貼設在所述平面反光鏡上表面，所述機械手的數量至少一個。

5.根據權利要求5所述的LED光源曝光系統，其特征在于：所述機械手的數量為四個，所述每個機械手控制一個擋片的移動，所述四個擋片以平面反光鏡的中心點為原點進行移動。

6.根據權利要求1任一項所述的激光調節系統，其特征在于：還包括顯示模塊，所述顯示模塊用于顯示中央處理器輸出的光斑圖像。

7.根據權利要求1-6任一項所述的LED光源曝光系統，其特征在于：所述擋片的材質為石英。

8.根據權利要求1所述的LED光源曝光系統，其特征在于：所述復眼組件包括至少兩個復眼鏡片，所述兩個復眼鏡片之間的距離可調。

9.根據權利要求8所述的LED光源曝光系統，其特征在于：所述復眼組件包括入射鏡片、出射鏡片和若干距離調節結構，所述入射鏡片和出射鏡片平行設置，所述若干距離調節結構使得入射鏡片和出射鏡片平行移動，所述距離調節結構由連接桿和調節桿組成，所述連接桿內設置有滑槽，所述調節桿在所述滑槽內可移動，所述距離調節結構的兩端分別設置在所述入射鏡片和出射鏡片的側面。

10.一種曝光機，包括LED光源曝光系統，其特征在于：所述LED光源曝光系統包括發出紫外光的UV-LED光源組件、接收并透射UV-LED光源組件發出的所述紫外光的復眼組件及接收并反射經過所述復眼組件勻化的紫外光的曲面鏡，所述曲面鏡將接收的紫外光反射至底片表面以進行圖形轉移；所述復眼組件與曲面鏡之間設有平面反光裝置，所述平面反光裝置對復眼組件勻化的紫外光進行反射至曲面鏡，所述平面反光裝置包括角度可調的平面反光鏡和多個可移動設在平面反光鏡上表面的擋片。