[發明專利]一種拜墊

在審

• 申請號: 202010164795.5
• 申請日: 2020-03-11
• 公開（公告）號: CN111466776A
• 公開（公告）日: 2020-07-31
• 發明（設計）人: 盛逸來
• 申請（專利權）人: 盛逸來
• 主分類號: A47G33/00
• 分類號: A47G33/00;A61L2/20;A61L101/06
• 代理公司: 浙江納祺律師事務所 33257
• 代理人: 應毓婷

1.一種拜墊，其特征在于，所述拜墊包括箱體，設置在箱體上的軟墊和消毒氣體釋放裝置；所述箱體內設置有固態二氧化氯緩釋劑儲存倉，儲存倉與軟墊之間具有氣體通道，軟墊與消毒氣體釋放裝置連通；軟墊固態二氧化氯緩釋劑釋放二氧化氯氣體進入軟墊，當軟墊受到壓力時，軟墊內的二氧化氯氣體進入消毒氣體釋放裝置，并釋放二氧化氯氣體至拜墊表面和周圍。

2.根據權利要求1所述的拜墊，其特征在于，儲存倉與軟墊之間的氣體通道為透氣篩網。

3.根據權利要求1所述的拜墊，其特征在于，儲存倉設有進氣口，進氣口處設有空氣止回閥。

4.根據權利要求1所述的拜墊，其特征在于，儲存倉還設有可密封的進料口。

5.根據權利要求1所述的拜墊，其特征在于，軟墊內填充高回彈材料。

6.根據權利要求1所述的拜墊，其特征在于，所述消毒氣體釋放裝置包括輸氣管和噴嘴，軟墊設有出氣口，輸氣管分別連通出氣口和噴嘴。

7.根據權利要求6所述的拜墊，其特征在于，所述消毒氣體釋放裝置還包括空氣壓力調節裝置，所述空氣壓力調節裝置設置在出氣口和噴嘴之間。

8.根據權利要求7所述的拜墊，其特征在于，所述空氣壓力調節裝置包括儲氣罐和儲氣罐止回閥。

9.根據權利要求6所述的拜墊，其特征在于，所述拜墊還設置有立柱，所述消毒氣體釋放裝置位于立柱內。

10.根據權利要求9所述的拜墊，其特征在于，所述立柱頂端設有圓球，噴嘴位于圓球內，噴嘴面向拜墊主體一側。