[發(fā)明專利]一種具有微納米級(jí)拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的導(dǎo)電神經(jīng)修復(fù)材料及其制備方法與應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010163431.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-03-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111269447B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-03-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高會(huì)場(chǎng);衛(wèi)應(yīng)奇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華南理工大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C08J5/18 | 分類號(hào): | C08J5/18;C08L67/04;C08L65/00;A61L27/48;A61L27/50 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102 | 代理人: | 何淑珍;馮振寧 |
| 地址: | 510640 廣*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 納米 拓?fù)?/a> 結(jié)構(gòu) 導(dǎo)電 神經(jīng) 修復(fù) 材料 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種具有微納米級(jí)拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的導(dǎo)電神經(jīng)修復(fù)材料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)采用CAD軟件繪制微納米級(jí)結(jié)構(gòu)的俯視圖,制成掩膜版,用掩膜版通過(guò)光刻技術(shù)在硅片上形成微納米級(jí)結(jié)構(gòu),然后在硅片上澆注PDMS預(yù)聚物與固化劑,交聯(lián)固化后得到帶有微納米級(jí)結(jié)構(gòu)的PMDS印章;
(2)將PLGA置于有機(jī)溶劑中至PLGA溶解,并攪拌均勻;
(3)向步驟(2)所得的PLGA溶液中加入無(wú)水乙醇分散的PEDOT溶液,繼續(xù)攪拌,使PEDOT均勻分散在PLGA溶液中;所述PEDOT為納米級(jí)顆粒;所述PEDOT與PLGA的質(zhì)量比為1%-10%;
(4)將步驟(3)中所得復(fù)合溶液的溶劑揮發(fā)獲得均勻分散的PLGA/PEDOT復(fù)合材料;
(5)將步驟(4)中所得PLGA/PEDOT復(fù)合材料均勻鋪展在步驟(1)所得的帶有微納米級(jí)結(jié)構(gòu)的PMDS印章上,置于真空干燥箱內(nèi),抽真空并加熱處理進(jìn)行熔融鑄膜,待冷卻后,將具有微納米級(jí)結(jié)構(gòu)的PLGA/PEDOT復(fù)合薄膜從PDMS印章上剝離,即可得到一種具有微納米級(jí)拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的導(dǎo)電神經(jīng)修復(fù)材料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述PMDS印章上的圖案為溝槽圖案或點(diǎn)陣圖案。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述PMDS印章上的圖案為溝槽圖案。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中所述有機(jī)溶劑為二氯甲烷,所述二氯甲烷的體積與PLGA的質(zhì)量之比為0.15mL/g-5.0mL/g。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中所述攪拌的速率為100-300r/min。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(5)中PLGA/PEDOT復(fù)合材料加熱熔融鑄膜的溫度為100-300℃。
7.由權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的制備方法制得的一種具有微納米級(jí)拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的導(dǎo)電神經(jīng)修復(fù)材料。
8.權(quán)利要求7所述的一種具有微納米級(jí)拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的導(dǎo)電神經(jīng)修復(fù)材料應(yīng)用于制備外周神經(jīng)組織工程支架。
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C08J5-02 .分散液,如乳膠直接加工成制品
C08J5-04 .用松散的或黏附的纖維狀材料增強(qiáng)高分子化合物
C08J5-12 .預(yù)先成形的高分子材料黏結(jié)在同樣的或另外的固體材料,如金屬、玻璃、皮革上,例如使用黏合劑
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