[發(fā)明專利]用于直拉單晶爐熱場的三相交流加熱器及使用方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010163129.X | 申請日: | 2020-03-10 |
| 公開(公告)號: | CN111172584A | 公開(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 沈益軍;潘金平;肖世豪;周永前;饒偉星;高海軍;楊國梁;陳洪;蘇文霞;徐斌 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江海納半導體有限公司 |
| 主分類號: | C30B15/14 | 分類號: | C30B15/14;C30B29/06;C30B30/04 |
| 代理公司: | 杭州中成專利事務所有限公司 33212 | 代理人: | 金祺 |
| 地址: | 324300 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 直拉單晶爐熱場 三相 交流 加熱器 使用方法 | ||
本發(fā)明公開了一種用于直拉單晶爐熱場的三相交流加熱器,包括分別位于正三角形3個端點的三個加熱器腳;三個加熱器葉片組件圍合形成一個圓筒,相鄰的加熱器葉片組件之間設有間隙Ⅰ;所述三個加熱器腳位于圓筒的內(nèi)表面的底部;在2個相鄰的加熱器葉片組件之間設置一個加熱器腳。本發(fā)明還同時公開了該三相交流加熱器的使用方法。本發(fā)明利用三相交流加熱器形成內(nèi)部磁場,不僅起到橫向磁場和旋轉(zhuǎn)磁場的作用,而且節(jié)省了外置磁場設備的造價及運維費用,大大降低了產(chǎn)品的生產(chǎn)成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及直拉單晶爐熱場技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種用于直拉單晶爐熱場的三相交流加熱器及使用方法。
背景技術(shù)
直拉單晶爐是在惰性氣體(氬氣為主)環(huán)境中,使用加熱器將多晶硅等多晶材料熔化,并采用直拉法生長無位錯單晶的設備。加熱器是單晶爐熱場的核心部件,提供多晶熔化長晶的熱能,目前使用最多的加熱器是圓筒鳥籠狀石墨加熱器,底部一般有兩個或四個連接電極的腳,圖1所示為兩個腳的石墨加熱器。單晶爐的供電電源通常為低壓大電流的直流電源,一般要求電源的輸出功率在0~180KW,輸出電壓在0~60V范圍內(nèi)可調(diào),輸出電流在0~3000A范圍內(nèi)可調(diào),電源的正負電極連接加熱器腳,提供電能轉(zhuǎn)換為熱能。
采用傳統(tǒng)的用直拉法生長晶體時,采用以加熱器圍繞坩堝外部的加熱方式,坩堝中熔體由于溫度場的非均勻性,存在溫度梯度產(chǎn)生的熔體熱對流,熔體易出現(xiàn)渦流,晶體-熔體界面形狀、溫度梯度以及雜質(zhì)濃度分布的均勻性難于控制,不易達到點缺陷的平衡。
所以,為了使直拉單晶的雜質(zhì)分布以及與雜質(zhì)有關(guān)的材料特性得到比較全面改善,在晶體生長時向熔體空間引入外加磁場,導電熔體在磁場中運動(對流)時要受到洛倫茲力的阻滯,該方法即為磁場直拉單晶技術(shù)。目前最常用的為橫向磁場,圖2為橫向磁場、磁力線方向和熔體對流方向示意圖,將單晶爐配置在橫向磁場的兩個磁極之間,讓磁力線平行橫穿單晶爐內(nèi)的硅單晶熔體,即磁力線與熔體的液面平行,磁力線穿過爐體,形成一個磁通路,便形成橫向磁場。熔體上下對流方向與磁力線方向成一定的角度,當磁感應強度達到一定大小后,一切宏觀對流均因受到洛倫茲力的作用而被阻滯。
單晶爐磁場分為電磁場和永磁場兩種。橫向電磁場裝置是由兩個完全相同的獨立螺旋管直流線圈、鐵芯、磁回路、集水器、分水器、磁場橫向和縱向調(diào)節(jié)及連接機構(gòu)、冷卻供水系統(tǒng)、多路水溫循環(huán)檢測和顯示報警系統(tǒng)、雙路大功率直流電源以及其它附件構(gòu)成。橫向永磁場由分別固定在軛板上的兩個磁系構(gòu)成,兩軛板經(jīng)導磁板連接在一起,軛板固定在立柱上,兩磁系相對,與軛板、導磁板形成半圍形狀,磁系由多個緊密排列的永磁體構(gòu)成。不管是電磁場還是永磁場,它們的設計都比較復雜,造價也非常昂貴。
單晶爐的供電電源通常為直流電源,電源系統(tǒng)采用模塊化設計、組合式結(jié)構(gòu),由交流輸入、變壓器、整流器、濾波電路、穩(wěn)壓器、直流輸出等部分組成,如圖3所示。整流器是一個整流裝置,就是將交流(AC)轉(zhuǎn)化為直流(DC)的裝置,經(jīng)濾波電路后供給負載。此供電電源設計比較復雜。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種用于直拉單晶爐熱場的三相交流加熱器及使用方法,從而實現(xiàn)用裝置對單晶爐內(nèi)坩堝加熱的同時引入外部磁場,從而提高生長晶體的雜質(zhì)分布均勻性。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種用于直拉單晶爐熱場的三相交流加熱器,包括分別位于正三角形3個端點的三個加熱器腳,
三個加熱器葉片組件圍合形成一個圓筒,相鄰的加熱器葉片組件之間設有間隙Ⅰ;所述三個加熱器腳位于圓筒的內(nèi)表面的底部;在2個相鄰的加熱器葉片組件之間設置一個加熱器腳;
每個加熱器葉片組件由相互對稱的加熱器葉片Ⅰ和加熱器葉片Ⅱ組成;加熱器葉片Ⅰ和加熱器葉片Ⅱ之間設有間隙Ⅱ,加熱器葉片Ⅰ和加熱器葉片Ⅱ的頂部相連,加熱器葉片Ⅰ的底部與一個加熱器腳相連,加熱器葉片Ⅱ的底部與另一個加熱器腳相連。
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