[發(fā)明專利]磁控管濺射裝置用旋轉式陰極單元

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010162332.5
• 申請日: 2016-01-08
• 公開（公告）號: CN111500994A
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發(fā)明（設計）人: 齋藤修司
• 申請（專利權）人: 株式會社愛發(fā)科
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京英特普羅知識產權代理有限公司 11015
• 代理人: 齊永紅

1.一種磁控管濺射裝置用旋轉式陰極單元，其具有：圓筒狀的靶；產生從靶表面泄漏的磁場且通過磁場的垂直分量為零的位置的線沿靶的母線延伸并封閉成跑道形的磁鐵單元；使冷媒在靶的內部空間循環(huán)的冷媒循環(huán)裝置；以及旋轉驅動靶的驅動裝置，所述磁控管濺射裝置用旋轉式陰極單元，其特征在于：

磁鐵單元具有在靶的母線方向兩端分別形成跑道的拐角部的一對第一部分，使各第一部分獨立并可相對于靶表面接近遠離地進退的移動裝置收納在磁盒內；

根據(jù)靶的侵蝕量通過移動裝置使各第一部分相對于靶表面向接近方向或遠離方向移動，使從靶表面泄露的磁場強度隨之改變。

2.根據(jù)權利要求1所述的磁控管濺射裝置用旋轉式陰極單元，其特征在于：

所述磁鐵單元還具有：在所述靶的母線方向內向分別與所述第一部分相鄰配置的一對第二部分；以及位于第二部分彼此之間的單個第三部分；使各第二部分和第三部分獨立并可相對于靶表面接近遠離地進退的移動裝置收納在磁盒內。

3.根據(jù)權利要求2所述的磁控管濺射裝置用旋轉式陰極單元，其特征在于：

在通過所述移動裝置使兩第一部分相對于靶向接近方向或遠離方向移動，從而伴隨兩第一部分的移動在位于從靶兩端部向各自母線方向內側的靶的部分上侵蝕量改變時，通過移動裝置使兩第二部分相對于靶向接近方向或遠離方向移動，調整靶的侵蝕量。

4.根據(jù)權利要求2所述的磁控管濺射裝置用旋轉式陰極單元，其特征在于：

根據(jù)靶種類和靶的厚度，通過移動裝置使第三部分相對于靶表面向接近方向或遠離方向移動，使從靶表面泄露的磁場強度隨之改變。

5.根據(jù)權利要求1或2所述的磁控管濺射裝置用旋轉式陰極單元，其特征在于：

所述磁盒插設在所述靶的內部空間中，并且所述磁鐵單元配置在大氣狀態(tài)下的磁盒內。

6.根據(jù)權利要求1或2所述的磁控管濺射裝置用旋轉式陰極單元，其中，靶具有襯底管以及與該襯底管外表面相接合的靶材，所述磁控管濺射裝置用旋轉式陰極單元的特征在于：

在所述磁盒的外表面和襯底管的內周面之間形成所述冷媒循環(huán)裝置的流體通道。

7.根據(jù)權利要求1或2所述的磁控管濺射裝置用旋轉式陰極單元，其特征在于：

所述移動裝置具有電機、與電機的驅動軸相連結的曲柄機構，通過曲柄機構的曲柄臂與所述磁鐵單元連接，通過旋轉驅動電機，所述磁鐵單元相對于靶向接近遠離方向移動自如。