[發明專利]一種離子膜的合成工藝

在審

• 申請號: 202010160927.7
• 申請日: 2020-03-10
• 公開（公告）號: CN111333886A
• 公開（公告）日: 2020-06-26
• 發明（設計）人: 謝小梅
• 申請（專利權）人: 謝小梅
• 主分類號: C08J5/18
• 分類號: C08J5/18;C08L101/00;C08L27/18;C08K13/02;C08K3/34;C08K3/38;C08K5/134
• 代理公司: 貴陽中新專利商標事務所 52100
• 代理人: 李余江;李龍

1.一種離子膜的合成工藝，其特征在于，該離子膜包括的合成工藝為以下步驟：

S1、膜液組分：

按重量份組分為：蛭石粉10-30份、奇冰石粉5-15份、電氣石粉10-20份、全氟磺酸樹脂5-10份、膠粘劑20-30份、阻燃劑5-10份、抗靜電劑0.5-2份、抗紫外線劑0.1-1.5份、抗氧化劑1-5份、表面活性劑1-3份、硅烷偶聯劑1-3份、改性劑2-5份、去離子水10-40份；

S2、膜液的制備：

A：將一定比例的蛭石粉、奇冰石粉、電氣石粉和去離子水放入混合罐內進行混合處理，并加入一定量的膠粘劑，充分攪拌30-60min，得混合液；

B：再將阻燃劑、抗靜電劑、抗紫外線劑、抗氧化劑依次加入混合液內進行均勻攪拌，溫度保持在70-100℃，轉速保持在1000-2000r/min，充分攪拌后，再向混合液內依次加入全氟磺酸樹脂、表面活性劑、硅烷偶聯劑和改性劑，繼續攪拌30-90min，即可制得膜液；

S3、膜液涂覆：將調配好的膜液均勻涂覆于承載基層上，然后將承載基層放入烘干設備內進行烘干處理，溫度控制在80-120℃，烘干0.5-1h后，將承載基層取出冷卻；

S4、成型剝離：待烘干處理后承載基層冷卻后，膜液會在其表面形成膜層，將膜層與承載基層剝離，棄除承載基層保留膜層，即可制得離子膜。

2.根據權利要求1所述的一種離子膜的合成工藝，其特征在于，所述蛭石粉的粒徑為0.1-2mm，所述的電氣石粉和奇冰石粉的粒徑為1000-6000目。

3.根據權利要求1所述的一種離子膜的合成工藝，其特征在于，所述改性劑為高級脂肪酸、有機低聚物、不飽和有機酸以及水溶性高分子中的一種或多種。

4.根據權利要求1所述的一種離子膜的合成工藝，其特征在于，所述抗氧化劑為三甘醇一二-3-(3-叔丁基-4羥基-5甲基苯基)丙酸酯。

5.根據權利要求1所述的一種離子膜的合成工藝，其特征在于，所述S3中膜液以干重20-40g/㎡的涂覆量均勻涂覆在承載基層表面。

6.根據權利要求1所述的一種離子膜的合成工藝，其特征在于，所述離子膜的厚度在5-20μm，且離子膜的透明度大于80％。

7.根據權利要求1所述的一種離子膜的合成工藝，其特征在于，所述承載層為PET、BOPP、PP、PC薄膜中的一種，所述承載基層的厚度在0.01-0.02㎜。