[發明專利]虛擬模型處理方法、裝置、設備及存儲介質

在審

• 申請號: 202010159908.2
• 申請日: 2020-03-09
• 公開（公告）號: CN111383320A
• 公開（公告）日: 2020-07-07
• 發明（設計）人: 吳韜
• 申請（專利權）人: 網易(杭州)網絡有限公司
• 主分類號: G06T15/80
• 分類號: G06T15/80;A63F13/52;A63F13/60
• 代理公司: 北京超成律師事務所 11646
• 代理人: 吳迪

本申請提供一種虛擬模型處理方法、裝置、設備及存儲介質，涉及模型處理技術領域。該方法包括：獲取待處理的虛擬模型；漸變遮罩貼圖和光照遮蔽貼圖對所述虛擬模型進行處理，得到所述虛擬模型的勾線；采用法線貼圖對所述虛擬模型的勾線進行處理，得到目標虛擬模型，所述目標虛擬模型具有所述勾線以及所述勾線的細節。本申請可以通過漸變遮罩貼圖和光照遮蔽得到虛擬模型的勾線，隨后通過法線貼圖對虛擬模型的勾線進行處理，得到勾線經過細節處理后的目標虛擬模型，這樣的處理方式相對于傳統技術，由于均使用的是純色貼圖，不需要手繪貼圖，所以降低了工作量，縮短了制作周期，且經過法線貼圖處理后的虛擬模型效果更好。

技術領域

本申請涉及模型處理技術領域，具體而言，涉及一種虛擬模型處理方法、裝置、設備及存儲介質。

背景技術

國畫美術是一種具有主觀意識，追求意境和感覺的美術風格。不論是勾線，還是山石其中的細節機理，都是一氣呵成一筆完成，從而形成的筆觸效果十分自然，這些筆觸效果便成為山石的細節效果。但若對其中的細節重復修改，突破，細化，便失去了其中韻味。

現有的國畫風格游戲產品，多以分UV畫貼圖的技術制作。在貼圖中，刻畫國畫特征的美術效果，如筆觸，潑墨，肌理，等。或者為了達到國畫中的暈染效果，也會采用透明材質，在上面繪制半透明的細節效果。

但是這樣的處理方式，由于貼圖的繪制需要根據需求，人工繪制較大尺寸的貼圖，所以工作量大，人工成本高，制作周期長。

發明內容

本申請的目的在于，針對上述現有技術中的不足，提供一種虛擬模型處理方法、裝置、設備及存儲介質，以解決的問題。

為實現上述目的，本申請實施例采用的技術方案如下：

第一方面，本申請實施例提供了一種虛擬模型處理方法，所述方法包括：

獲取待處理的虛擬模型；

采用漸變遮罩貼圖和光照遮蔽貼圖對所述虛擬模型進行處理，得到所述虛擬模型的勾線；

采用法線貼圖對所述虛擬模型的勾線進行處理，得到目標虛擬模型，所述目標虛擬模型具有所述勾線以及所述勾線的細節。

可選地，所述采用漸變遮罩貼圖和光照遮蔽貼圖對所述虛擬模型進行處理，得到所述虛擬模型的勾線，包括：

對所述漸變遮罩貼圖的參數進行調節；

根據調節后的所述漸變遮罩貼圖和所述光照遮蔽貼圖，對所述虛擬模型進行處理，得到所述虛擬模型的勾線。

可選地，所述參數包括下述至少一種參數：貼圖大小、明暗比例、明暗過渡范圍、明暗對應關系。

可選地，所述采用法線貼圖對所述虛擬模型的勾線進行處理，得到目標虛擬模型，包括：

對所述法線貼圖，進行調節；

根據調節后的所述法線貼圖，對所述虛擬模型的勾線進行處理，得到所述目標虛擬模型。

可選地，所述對所述法線貼圖，進行調節，包括:

對所述法線貼圖的法線強度參數進行調節；和/或，

對所述法線貼圖的大小進行縮放調節。

可選地，所述采用法線貼圖對所述虛擬模型的勾線進行處理，得到目標虛擬模型之前，所述方法還包括：

根據所述虛擬模型的材質，選擇所述材質對應的法線貼圖。

可選地，所述虛擬模型為應用于國畫風格游戲場景中的模型。

第二方面，本申請實施例還提供一種虛擬模型處理裝置，所述裝置包括：獲取模塊和處理模塊，其中：