[發明專利]一種測量全息母版刻槽深度的方法

有效

• 申請號: 202010159422.9
• 申請日: 2020-03-09
• 公開（公告）號: CN111366096B
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發明（設計）人: 黃敏;習永惠;李修;劉瑜;潘潔
• 申請（專利權）人: 北京印刷學院
• 主分類號: G01B11/22
• 分類號: G01B11/22
• 代理公司: 北京市廣友專利事務所有限責任公司 11237
• 代理人: 耿小強

1.一種測量全息母版刻槽深度的方法，包括如下步驟：

(1)選取n種不同類別、不同種類的全息母版作為待測試母版；并在待測試母版上選擇無臟污、無劃痕的位置，作為測量區域；

(2)選擇顏色測量儀器，保持顏色測量儀器的測量孔徑與測量區域的測量點直接接觸，基于步驟(1)中選取的測量區域，固定位置，旋轉顏色測量儀器，測量不同旋轉角度，待測試母版的明度值L^*，并計算多次測量的平均值；

(3)用顯微鏡測量步驟(1)中測量區域內不同測量點的刻槽深度值h，并計算多次測量的平均值；

(4)將步驟(2)中測量的平均明度值L^*和步驟(3)中測量的平均刻槽深度值h繪制成散點圖；

(5)通過步驟(4)中的散點圖，擬合、建立明度值L^*和刻槽深度值h之間的數學回歸關系；

(6)基于步驟(5)建立的明度值L^*和刻槽深度值h之間的數學回歸關系曲線，重復步驟(2)的操作，測量任一待測試母版的明度值L^*，通過測量得到的明度值L^*，計算得出相應的刻槽深度值h。

2.根據權利要求1所述的測量全息母版刻槽深度的方法，其特征在于：步驟(1)中，所述顯微鏡為3D激光共聚焦形貌顯微鏡。

3.根據權利要求1所述的測量全息母版刻槽深度的方法，其特征在于：步驟(1)中，所述的待測試母版為未經過任何后加工的全息母版，所述n≥9。

4.根據權利要求1所述的測量全息母版刻槽深度的方法，其特征在于：步驟(1)中，所述不同類別全息母版包括亮彩虹光柱全息母版、素面彩虹全息母版或啞光柱全息母版。

5.根據權利要求1所述的測量全息母版刻槽深度的方法，其特征在于：步驟(1)中，所述測量區域的尺寸不小于10mm×10mm。

6.根據權利要求1所述的測量全息母版刻槽深度的方法，其特征在于：步驟(2)中，所述的顏色測量儀器為積分球式分光光度計。

7.根據權利要求6所述的測量全息母版刻槽深度的方法，其特征在于：步驟(2)中，測量條件為D65照明光源，10°視場，包含鏡面反射光，不小于4mm的測量孔徑。

8.根據權利要求1所述的測量全息母版刻槽深度的方法，其特征在于：步驟(2)中，所述不同旋轉角度，是指0°～180°范圍內，等角度間隔旋轉不同角度采集母版的明度值，旋轉次數≥4。

9.根據權利要求1所述的測量全息母版刻槽深度的方法，其特征在于：步驟(2)和步驟(3)中，測量次數不少于4次。

10.根據權利要求1所述的測量全息母版刻槽深度的方法，其特征在于：步驟(5)中所述數學回歸關系為對數曲線模型或線性模型。