[發明專利]一種集成光學復合基板

有效

• 申請號: 202010158416.1
• 申請日: 2020-03-09
• 公開（公告）號: CN113381297B
• 公開（公告）日: 2022-07-01
• 發明（設計）人: 張秀全;朱厚彬;李真宇;薛海蛟;李洋洋;張濤
• 申請（專利權）人: 濟南晶正電子科技有限公司
• 主分類號: H01S5/227
• 分類號: H01S5/227;H01S5/183
• 代理公司: 北京弘權知識產權代理有限公司 11363
• 代理人: 逯長明;許偉群

1.一種集成光學復合基板，其特征在于，所述集成光學復合基板包括：垂直腔面發射激光器(1)以及覆蓋于所述垂直腔面發射激光器頂面上的光調制層(2)，在所述垂直腔面發射激光器(1)的頂部開設貫穿頂面的出光孔(3)，在所述出光孔(3)內填充有光傳輸層(4)，通過調整光傳輸層(4)的結構形態來調整光射入光調制層(2)的角度，使得光以目標預設角度射入光調制層(2)。

2.根據權利要求1所述的集成光學復合基板，其特征在于，所述光調制層(2)的入射面為斜面。

3.根據權利要求1或2所述的集成光學復合基板，其特征在于，在所述光傳輸層(4)中嵌入有光傳輸通道(5)，所述光傳輸通道(5)貫穿于所述光傳輸層(4)并且與光調制層(2)的入射面連接。

4.根據權利要求3所述的集成光學復合基板，其特征在于，所述光傳輸通道(5)的折射率小于光調制層(2)的折射率。

5.根據權利要求3所述的集成光學復合基板，其特征在于，所述光傳輸通道(5)的直徑由所述出光孔(3)的底面向光調制層入射面逐漸減小，并且，所述光傳輸通道(5)在所述光調制層(2)入射面上的切線與所述光調制層(2)的入射面之間具有第一預設角度。

6.根據權利要求5所述的集成光學復合基板，其特征在于，所述光傳輸通道(5)包括斜圓錐形、斜圓臺形、斜面圓錐體或者斜面圓臺形。

7.根據權利要求5所述的集成光學復合基板，其特征在于，所述出光孔(3)與所述光傳輸通道(5)的形狀相似。

8.根據權利要求1或2所述的集成光學復合基板，其特征在于，在所述光傳輸層(4)與所述光調制層(2)之間設置有高透層(6)。

9.根據權利要求3所述的集成光學復合基板，其特征在于，在所述光傳輸通道(5)的外周面上設置有反射層(7)。

10.根據權利要求1或2所述的集成光學復合基板，其特征在于，所述垂直腔面發射激光器(1)包括上電極(16)，在所述上電極(16)的上表面設置有絕緣層(8)，所述出光孔(3)貫穿于所述上電極(16)以及絕緣層(8)。

11.根據權利要求3所述的集成光學復合基板，其特征在于，

用于制造所述光調制層(2)的材料包括鈮酸鋰薄膜和鉭酸鋰薄膜；和/或

用于制造所述光傳輸層(4)的材料包括硅和氮化硅；和/或

用于制造所述光傳輸通道(5)的材料包括硅和氮化硅。