[發明專利]一種流體均流單元、分流模塊和均流裝置

在審

• 申請號: 202010157426.3
• 申請日: 2020-03-09
• 公開（公告）號: CN111237297A
• 公開（公告）日: 2020-06-05
• 發明（設計）人: 胡杰;李春;陳俊;何小蘭
• 申請（專利權）人: 三金集團湖南三金制藥有限責任公司
• 主分類號: F15D1/00
• 分類號: F15D1/00
• 代理公司: 北京風雅頌專利代理有限公司 11403
• 代理人: 曾志鵬

本發明屬于一種均流裝置，具體是涉及到一種流體均流單元、分流模塊和均流裝置，流體均流單元包括兩塊均流板和位于兩塊均流板之間的導流板，導流板的上部設置有用于單股流體均流的凸起，均流板的上部和側部突出于導流板設置，突出部和導流板形成流體經過的導槽，本發明的流體均流單元可使單股流體實現等分，當流體均流單元組合形成流體均流裝置后，可進行流體均流，且效果好，整體結構簡單，操作方便，僅通過重力即可達到優秀的均流效果。

技術領域

本發明屬于一種均流裝置，具體是涉及到一種流體均流單元、分流模塊和均流裝置。

背景技術

流體涉及領域行業較多，應用廣泛，有小顆粒固體“流體”、液流、氣流、超臨界流，流體在某一種介質中流動往往會受到其中阻力分布不均、粘度、速度、彈性等因素干擾，常規方法難以達到可控的均流效果。

目前流體的應用十分廣泛，從常規的氣體流、液體流到具備類似流體流動性特征的“小顆粒固體流”，目前其難以通過簡單地的、或不借助重力外的力達到十分均一的效果；即使滿足某一條件時達到均一效果，也難以不借助外力在非飽和流量下使流體均流的效果。不利影響舉例：①、流體分布不均時會造成各接收部位受力的差別對接收裝置的不均勻損害；②、“固體顆粒流”填料時各部位累計接收量不等，整體堆積成錐體狀，局部厚度、密度不均；③、合成反應局部不足和過量容易引起反應收率低、副反應發生、反應失控等弊端。

發明內容

本發明要解決的技術問題是發明一種僅借助流體自身重力即可達到均流的流體均流單元、分流模塊和均流裝置。

本發明的內容包括：一種流體均流單元，包括兩塊均流板和位于兩塊均流板之間的導流板，導流板的上部設置有用于單股流體均流的凸起，均流板的上部和側部突出于導流板設置，突出部和導流板形成流體經過的導槽。

更進一步地，所述凸起頂部兩側坡度一致。

更進一步地，所述導槽為直槽或者波浪槽。

更進一步地，所述導流板的底部設置有內凹Ⅰ。

一種流體分流模塊，包括流體均流單元，流體均流單元相互連接固定，形成一上部呈梯形，下部呈倒三角形設置的垂直方向的軸對稱圖形，上部梯形設置有若干層，頂層設置有至少2個流體均流單元，往下每一層比上一層多1個流體均流單元，下部倒三角形頂層比上部梯形底層少1或3個流體均流單元，往下每一層比上一層少1個流體均流單元。

更進一步地，下部倒三角形上位于兩腰外側的若干個導槽水平方向間距一致。

一種流體均流裝置，包括流體分流模塊，流體分流模塊至少縱向交錯設置有兩組，其中一組流體均流模塊的對稱軸與另一組流體均流模塊最外側的流體均流單元的側邊對齊。

更進一步地，所述流體均流模塊橫向并排設置有若干組，縱向交錯排布設置有若干組。

流體均流裝置還包括流體擋流裝置，流體擋流裝置包括若干個設置在下部倒三角形兩腰外側的導槽的側邊上的擋流板，擋流板擋住位于兩腰外側的導槽的側邊，防止流體呈拋物線拋出。

流體均流裝置還包括流體匯流裝置，所述流體匯流裝置包括設置在若干個擋流板底部的匯流板，若干個擋流板底部平齊，匯流板沿擋流板一側向另一側傾斜向下延伸，交錯設置的兩組流體分流模塊重疊部的2塊匯流板圍合形成匯流槽。

本發明的有益效果是：

本發明的流體均流單元可使單股流體實現等分，當流體均流單元組合形成流體均流裝置后，可進行流體均流，且效果好，整體結構簡單，操作方便，僅通過重力即可達到優秀的均流效果；

將導槽設置有直槽或者波浪槽，分別對應非粘性流體和粘性流體，保證二者的均流效果；

在導流板底部設置內凹Ⅰ，可避免粘性流體在從導槽底部向導流板底部時中間聚攏或偏移。