[發(fā)明專利]一種基于稀土氧化物閃爍體/半導(dǎo)體復(fù)合薄膜的X射線探測器的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010154659.8 | 申請日: | 2020-03-08 |
| 公開(公告)號: | CN111430502B | 公開(公告)日: | 2021-08-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李岳彬;陶敏;陳思琦;柳維端;王成;李根;胡永明;顧豪爽 | 申請(專利權(quán))人: | 湖北大學(xué) |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/115;H01L31/0232 |
| 代理公司: | 武漢宇晨專利事務(wù)所(普通合伙) 42001 | 代理人: | 王敏鋒 |
| 地址: | 430062 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 稀土 氧化物 閃爍 半導(dǎo)體 復(fù)合 薄膜 射線 探測器 制備 方法 | ||
1.一種基于稀土氧化物閃爍體/半導(dǎo)體復(fù)合薄膜的X射線探測器的制備方法,包括以下步驟:
S1.透明導(dǎo)電玻璃襯底表面處理:使用去離子水,玻璃清洗劑,酒精和丙酮依次對導(dǎo)電襯底進行超聲清洗,然后使用等離子體對導(dǎo)電襯底表面進行潤濕性處理,或使用紫外照射及臭氧對導(dǎo)電襯底表面進行潤濕性處理;
S2.制備稀土離子Ln3+的硝酸鹽溶液備用,該Ln3+表示Lu3+、La3+、Y3+中的任一一種稀土離子;
S3.制備激活劑Re3+的硝酸鹽溶液備用,該Re3+表示Eu3+、Tb3+、Tm3+中的任一一種稀土離子;
S4.制備含光電響應(yīng)半導(dǎo)體AmXn的電解液備用,包括:
過渡金屬陽離子An+的鹽溶液作為電解液;
或?qū)⑦^渡金屬陽離子An+的鹽溶液與絡(luò)合劑混合得到金屬陽離子前驅(qū)體溶液,配置氧族元素X的含氧酸鈉鹽水溶液,氧族元素X的含氧酸鈉鹽水溶液為含有Na2S2O3、Na2SeO3、Na2TeO3中任一一種的溶液,再與所述的金屬陽離子前驅(qū)體溶液按氧族元素X的陰離子與金屬陽離子An+的摩爾比為1:(1~10)混合,調(diào)控混合溶液pH值在2-8范圍,得到的電解液;
所述An+的鹽溶液表示Cd2+、Zn2+、Bi3+、Cu2+、Cu+中任一一種金屬陽離子的鹽酸鹽、或硫酸鹽、或醋酸鹽,所述絡(luò)合劑表示聚乳酸、檸檬酸、檸檬酸鈉、CTAB中的任一一種,所述X表示S、Se、Te中的一種,n+為金屬陽離子An+的化合價,m,n為半導(dǎo)體AmXn的化學(xué)式中X和A元素的數(shù)量;
S5. 稀土氧化物閃爍體前驅(qū)體電化學(xué)沉積:將步驟S2和步驟S3配置的溶液混合得到電解液并加入電解池中,使前體電解液中Ln3+和Re3+的摩爾比為(99.5:0.5)~(85:15),Ln3+和Re3+濃度之和為0.01~0.05mmol/L,以步驟S1中潤濕后的導(dǎo)電玻璃襯底作為工作電極,Pt電極作為對電極,Ag/AgCl電極作為參比電極,在所述前體電解液體系中進行電沉積,使稀土離子水合物 Ln2(OH)6-x(NO3)x·yH2O成核沉積在導(dǎo)電玻璃襯底上,得稀土氧化物閃爍前驅(qū)體薄膜;
S6.退火結(jié)晶制備Ln2O3:Re3+閃爍體薄膜:將經(jīng)步驟S5得到的附著了稀土氧化物閃爍前驅(qū)體薄膜的導(dǎo)電玻璃襯底置于管式爐中在空氣氛圍下,在300~600℃下退火結(jié)晶,得到閃爍體薄膜Ln2O3:Re3+,Ln表示稀土元素Lu、La、Y中的一種,Re3+表示激活劑離子Eu3+、Tb3+、Tm3+中的一種,且激活劑離子摻雜摩爾百分比為0.5~15%,閃爍體薄膜厚度為0.3~16μm;
S7.將經(jīng)步驟S6得到的閃爍體薄膜作為基底放入濺射機,覆蓋叉指電極掩膜版,采用磁控濺射儀在閃爍體薄膜未被覆蓋的表面沉積一層金屬叉指電極,去除叉指電極掩膜版?zhèn)溆茫?/p>
S8.光電響應(yīng)半導(dǎo)體AmXn薄膜的電化學(xué)沉積:將步驟S7中濺射了金屬叉指電極的閃爍體薄膜的導(dǎo)電玻璃襯底作為工作電極,Pt電極作為對電極,Ag/AgCl電極作為參比電極,在步驟S4中的電解液體系中進行電沉積,使光電響應(yīng)半導(dǎo)體AmXn沉積在閃爍體薄膜表面的金屬叉指電極之間,再在100~300℃下退火,得到對X射線有響應(yīng)的X射線探測器,其中若選用電解液體系為金屬陽離子電解液,則在空氣氛圍下退火,若否,則在N2氛圍下退火。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于湖北大學(xué),未經(jīng)湖北大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010154659.8/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:可降溫按摩椅及按摩床
- 下一篇:一種企業(yè)營銷策劃用文件收集裝置
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





