[發(fā)明專利]顯示面板和顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010152872.5 | 申請日: | 2020-03-06 |
| 公開(公告)號: | CN111208675B | 公開(公告)日: | 2022-06-21 |
| 發(fā)明(設計)人: | 岳陽;王倩;楊桐;董立文;舒適;于勇;姚琪;黃海濤;李翔;徐傳祥;譚紀風 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13357 | 分類號: | G02F1/13357;G02F1/1335;G02F1/1343;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權代理有限公司 11112 | 代理人: | 吳俁;姜春咸 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 面板 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板,其中,包括:
導光結構層,具有出光側(cè),配置為使內(nèi)部的光線從所述出光側(cè)的預設位置射出;
顯示結構層,設置在所述導光結構層的出光側(cè),包括調(diào)光結構以及位于所述調(diào)光結構遠離所述導光結構層一側(cè)的黑矩陣和反射矩陣,所述調(diào)光結構配置為控制從所述預設位置射出的光線入射到所述黑矩陣所在區(qū)域和/或所述反射矩陣所在區(qū)域;
吸光結構層,位于所述調(diào)光結構遠離所述黑矩陣的一側(cè),配置為吸收經(jīng)由所述黑矩陣的表面反射出的光線,且使得經(jīng)由所述反射矩陣的表面反射出的光線通過;
所述顯示結構層具有顯示區(qū),所述顯示區(qū)包括多個亞像素區(qū);
所述導光結構層包括位于所述預設位置且與所述亞像素區(qū)一一對應的多個取光口;
所述黑矩陣包括與所述亞像素區(qū)一一對應的多個遮光單元;
所述反射矩陣包括與所述亞像素區(qū)一一對應的多個反光單元;
吸光結構層包括與所述亞像素區(qū)一一對應的多個吸光單元;
所述取光口、所述遮光單元、所述反光單元和所述吸光單元均位于對應的所述亞像素區(qū)內(nèi);
所述遮光單元包括:第一遮光圖形和第二遮光圖形;
所述第二遮光圖形位于所述第一遮光圖形靠近所述調(diào)光結構的一側(cè),所述第二遮光圖形遠離所述第一遮光圖形的一側(cè)表面為第一傾斜面,所述第一傾斜面所處平面與所述第一遮光圖形所處平面相交,且所述第一傾斜面朝向位于同一亞像素區(qū)內(nèi)的所述取光口。
2.根據(jù)權利要求1所述的顯示面板,其中,在每個所述亞像素區(qū)內(nèi),相對于所述第二遮光圖形,所述反光單元更遠離所述取光口;
所述第二遮光圖形在所述第一遮光圖形所處平面上的正投影與反光單元在所述第一遮光圖形所處平面上的正投影相接觸。
3.根據(jù)權利要求1所述的顯示面板,其中,在每個所述亞像素區(qū)內(nèi),所述反光單元位于所述第一遮光圖形靠近所述調(diào)光結構的一側(cè);
所述反光單元和所述第二遮光圖形在所述第一遮光圖形靠近所述調(diào)光結構的一側(cè)表面并排設置且相接觸。
4.根據(jù)權利要求3所述的顯示面板,其中,所述反光單元包括:本體和反射層,所述本體遠離所述第一遮光圖形的一側(cè)表面為第二傾斜面,所述第二傾斜面所處平面與所述第一遮光圖形所處平面相交,且所述第二傾斜面朝向位于同一亞像素區(qū)內(nèi)的所述取光口,所述反射層設置于所述第二傾斜面上。
5.根據(jù)權利要求4所述的顯示面板,其中,所述本體、所述第一遮光圖形和所述第二遮光圖形,三者一體成型。
6.根據(jù)權利要求1所述的顯示面板,其中,所述調(diào)光結構包括液晶層,所述顯示結構層還包括:襯底基板、第一電極層和第二電極層;
所述第一電極層位于所述襯底基板靠近所述液晶層的一側(cè),所述黑矩陣和所述反射矩陣位于所述第一電極層靠近所述液晶層的一側(cè),所述第二電極層位于所述液晶層遠離所述黑矩陣的一側(cè);
所述吸光結構層位于所述第二電極層和所述液晶層之間。
7.根據(jù)權利要求1所述的顯示面板,其中,所述顯示結構層還包括:彩色濾光矩陣,所述彩色濾光矩陣設置在所述調(diào)光結構遠離所述反射矩陣的一側(cè),所述彩色濾光矩陣配置為對從所述預設位置射出的光線進行濾光和/或?qū)?jīng)由所述反射矩陣的表面反射出的光線進行濾光。
8.根據(jù)權利要求6所述的顯示面板,其中,所述第二電極層和所述吸光結構層之間設置有防護層,且所述防護層與所述吸光結構層接觸,所述防護層配置為在通過構圖工藝形成所述吸光結構層的圖形的工藝過程中防止在非圖形區(qū)域出現(xiàn)材料殘留。
9.根據(jù)權利要求8所述的顯示面板,其中,所述吸光結構層的材料包括碳;
所述防護層的材料包括氧化硅。
10.根據(jù)權利要求1所述的顯示面板,其中,在所述導光結構層遠離所述調(diào)光結構的一側(cè)設置有散射層。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結構中的





