[發明專利]具有噴泉射流排水裝置的盥洗臺布置結構

在審

• 申請號: 202010152483.2
• 申請日: 2020-03-06
• 公開（公告）號: CN111663611A
• 公開（公告）日: 2020-09-15
• 發明（設計）人: S.安布魯斯特;M.比爾格;A.邁斯納
• 申請（專利權）人: 漢斯格羅歐洲公司
• 主分類號: E03C1/048
• 分類號: E03C1/048;E03C1/04
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 吳超;司昆明

本發明涉及一種盥洗臺布置結構，該盥洗臺布置結構包括具有盥洗盆水槽（2）的盥洗臺（1）和排水裝置（3），該盥洗臺被構造成用于以由單獨射流組成的噴泉射流的形式排水，并且包括多個排水噴嘴（4），這些排水噴嘴被布置在盥洗盆水槽中，以用于沿從盥洗盆水槽傾斜向上并再次回到盥洗盆水槽的相關聯的單獨射流方向排出單獨射流。根據本發明，排水噴嘴（4）布置在帶型噴嘴分配區域（6）內，該帶型噴嘴分配區域（6）具有沿水槽周向方向延伸的帶長度（D_L）和與其垂直的帶高度（D_H），其中其帶長度大于其帶高度，并且其帶長度（D_L）最多跨水槽圓周的一半延伸。例如，一種用于浴室中的盥洗場所的用途。

技術領域

本發明涉及一種盥洗臺布置結構，該盥洗臺布置結構包括盥洗臺，該盥洗臺具有盥洗盆水槽和排水裝置，排水裝置被構造成用于以由單獨射流組成的噴泉射流的形式排出水，并且該排水裝置具有多個排水噴嘴，所述多個排水噴嘴被布置在盥洗盆中，以用于沿從盥洗盆水槽向上傾斜地流出并再次返回到盥洗盆水槽的相關聯的單獨射流方向排出單獨射流。

背景技術

盥洗臺布置結構可例如用作浴室等中的盥洗場所，在盥洗場所處，用戶可以盥洗或執行各種其他身體護理動作。雖然盥洗臺布置結構在大多數情況下具有衛浴出口配件，衛浴出口配件具有在作為唯一排水裝置的盥洗盆水槽上方終止的出口管，但是在當前的盥洗臺布置結構中，排水裝置被構造成排出特定的噴泉射流。

在專利公開US 7.155.759 B2和US 7.461.419 B2中公開了一種在引言中提到的類型的盥洗臺布置結構。在其中的盥洗臺布置結構中，排水噴嘴借助于盥洗盆水槽中的排水開口形成，排水開口以優選地不規則的圖案布置在整個水槽上，或者在任何情況下在水槽的整個圓周上布置在水槽的上部區域中。排水噴嘴全部都定向成使它們相關聯的單獨射流方向朝向盥洗盆水槽上的中心區域，使得產生拱形噴泉射流。當排水噴嘴的布置結構限于上部水槽區域時，在水槽的下部部分中，位于上方的排水開口的圖案可以借助于用作排水件的相同形狀的排出開口來延續。替代地，盥洗盆水槽具有常規的中心排水件。

發明內容

本發明解決的技術問題是提供一種引言中提到的類型的盥洗臺布置結構，其排水裝置能夠以替代噴泉射流的形式排水，與上文解釋的現有技術相比，其射流圖案在應用方面提供顯著優勢。

本發明通過提供具有權利要求1的特征的盥洗臺布置結構解決這個問題。在該盥洗臺布置結構中，排水噴嘴布置在帶狀噴嘴分配區域內，該帶狀噴嘴分配區域具有沿水槽周向方向延伸的帶長度和與其垂直的帶高度。在這種情況下，噴嘴分配區域的帶長度大于它的帶高度，并且噴嘴分配區域以它的帶長度最多跨水槽圓周的一半延伸。

利用這種特定的排水裝置，根據本發明的盥洗臺布置結構能夠以噴泉射流的形式排水，這對于許多應用是有利的。作為該特定噴嘴分配區域的結果，可以以類似于例如級聯射流的方式提供噴泉射流（在噴泉射流的形狀以及特別是其射流形式方面類似于級聯射流），級聯射流具有垂直于射流擴張方向的射流橫截面，并且其水平射流寬度大于豎直射流寬度（也就是說，射流高度），優選地比豎直射流寬度大若干倍。與所提到的常規拱形噴泉射流相比，噴泉射流可提供在其射流路徑上更局部化的水流，并且該水流在盥洗盆水槽上留下更大的自由區域，使得只要用戶在這些區域中行動，用戶就不會變得不必要或不期望的潮濕，并且在被水占據的區域中，在噴泉射流的路徑上存在相對密集的水流，并且用戶可以有效地將這種水流用于他的應用。這種噴泉射流不同于常規的級聯射流，并且也不同于使用出口配件的其他常規的排水射流，出口配件具有由于排水射流的軌跡而在水槽上終止的出口管，該軌跡以傾斜地向上且然后傾斜地向下的軌跡拋物線的方式引導，并且排水射流的組成包括由排水噴嘴排出的多個單獨射流。

所有這些針對許多不同應用為用戶提供了顯著優勢。因此，噴泉射流尤其適合于洗手、洗臉、清潔牙齒、用水填充杯子或類似物、沖洗容器、清潔物體等。由于其組合的軌跡拋物線形狀和扇狀形狀，它也還特別適合于洗發或洗頭和清潔胡須。由于在盥洗盆水槽上省略了水出口管，因此對于這些應用，用戶具有不受阻礙的空間來將他的頭放在水槽上。