[發(fā)明專利]一種自動上下料單臺面雙工位曝光機

在審

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• 申請日: 2020-03-06
• 公開（公告）號: CN111273521A
• 公開（公告）日: 2020-06-12
• 發(fā)明（設計）人: 張雷
• 申請（專利權）人: 蘇州源卓光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明公開了一種自動上下料單臺面雙工位曝光機，包括曝光系統(tǒng)、基板承載臺、多軸運動系統(tǒng)、上料緩存工位、下料緩存工位、第一上料搬運組件、第二上料搬運組件、第一下料搬運組件和第二下料搬運組件，上料緩存工位與下料緩存工位分別位于基板承載臺的兩側，基板承載臺上設置有第一工位和第二工位，第二上料搬運組件和第一下料搬運組件搬運第一工位上的基板，第一上料搬運組件和第二下料搬運組件搬運第二工位上的基板。本發(fā)明與普通單臺面技術相比，可以進行兩塊基板的同時上料和下料，極大提升了單機設備產能，上料緩存工位和下料緩存工位僅需容納一塊基板，減少了緩存工位的數量減少，大大降低了設備占地面積，提高了空間利用率。

技術領域

本發(fā)明涉及曝光機領域，尤其涉及一種自動上下料單臺面雙工位曝光機。

背景技術

曝光機是通過開啟燈光將膠片或者其他透明體上的圖像信息轉移到涂油感光物質的表面上的機器設備。激光直寫式曝光是用于在襯底表面上印刷具有特征的構圖，相比于傳統(tǒng)的掩膜版和菲林底片等曝光的影像直接轉移技術，直寫式曝光技術產能高，對位精度高。在半導體及PCB生產領域有著非常重要的作用。

由于普通單工位曝光機，產能較低，每一片板曝光需要完成上板，對準，曝光，下板等工序，整個流程時間較長，大多數需要人工完成上下料，勞動強度較大。普通的雙工位曝光機，雖然生產效率提高，但是常規(guī)的自動化布局使得上料、下料緩存工位成倍增加，使得客戶空間上難以接受，空間利用率低。

發(fā)明內容

為解決上述技術問題，本發(fā)明提出一種自動上下料單臺面雙工位曝光機，其發(fā)明目的是如何使雙工位曝光機空間利用率提高。

為了達到上述目的，本發(fā)明的技術方案如下：一種自動上下料單臺面雙工位曝光機，包括曝光系統(tǒng)、基板承載臺和多軸運動系統(tǒng)，所述多軸運動系統(tǒng)驅動所述基板承載臺運動，所述曝光系統(tǒng)曝光所述基板承載臺上的基板，還包括：上料緩存工位、下料緩存工位、第一上料搬運組件、第二上料搬運組件、第一下料搬運組件和第二下料搬運組件，所述上料緩存工位與所述下料緩存工位分別位于所述基板承載臺的兩側，所述基板承載臺上設置有第一工位和第二工位，所述第二上料搬運組件和所述第一下料搬運組件搬運所述第一工位上的基板，所述第一上料搬運組件和第二下料搬運組件搬運所述第二工位上的基板。

進一步的，所述上料緩存工位位于所述第一工位的側方，所述下料緩存工位位于所述第二工位的側方。

進一步的，所述第一上料搬運組件位于所述第二上料搬運組件的上方，所述第一下料搬運組件位于所述第二下料搬運組件的下方。

進一步的，所述基板承載臺的上方設置有上直線電機和下直線電機，所述第一上料搬運組件和所述第一下料搬運組件安裝在所述上直線電機上，所述第二上料搬運組件和所述第二下料搬運組件安裝在所述下直線電機。

進一步的，所所述第一上料搬運組件、第二上料搬運組件、第一下料搬運組件和第二下料搬運組件均包括吸附組件，所述吸附組件升降設置。

進一步的，所述吸附組件包括復數個平行分布的連接件，所述連接件上設置有復數個吸頭。

進一步的，還包括龍門架橫梁，所述曝光系統(tǒng)固定在所述龍門架橫梁上，所述曝光系統(tǒng)位于所述基板承載臺的上方。

進一步的，所述基板承載臺為中空吸盤結構以吸附基板。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明提供的自動上下料單臺面雙工位曝光機，與普通單臺面技術相比，由于采用雙工位臺面，可以進行兩塊基板的同時上料和下料，極大提升了單機設備產能。本發(fā)明的上料緩存工位和下料緩存工位僅需容納一塊基板，減少了緩存工位的數量減少，大大降低了設備占地面積，提高了空間利用率。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的俯視圖；

圖2為本發(fā)明部分結構示意以及物料流轉圖；