[發明專利]一種陶瓷上釉工藝

有效

• 申請號: 202010151668.1
• 申請日: 2020-03-06
• 公開（公告）號: CN111331717B
• 公開（公告）日: 2021-11-23
• 發明（設計）人: 張凱麗
• 申請（專利權）人: 佛山市大境陶瓷科技有限公司
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04;C04B41/86
• 代理公司: 廣州海藻專利代理事務所(普通合伙) 44386
• 代理人: 張大保

1.一種陶瓷上釉工藝，其特征在于，包括以下步驟：

步驟一：坯料的運輸抓取，運輸組件a(11)將待上釉的坯料輸送至運輸組件b(21)的下方，之后所述運輸組件a(11)與所述運輸組件b(21)同步運動，導向桿(231)在限位圈(243)的作用下向下移動，導向輪(236)進入坯料的內部，之后的移動過程中，限位條(2374)及接觸桿(2371)下移帶動所述導向輪(236)向外移動將坯料支撐抓取；

所述導向桿(231)移動自所述限位圈(243)的接觸部(2431)移動至與凹陷部a(2432)配合，進而使所述導向輪(236)下移伸入坯料內部，并且在抓取完成之后，所述導向桿(231)再次移動至與所述接觸部(2431)配合；

所述限位條(2374)移動沿限位軌a(2375)的下表面接觸，所述接觸桿(2371)下移，驅使滑動桿(235)帶動套筒(232)外側的所述導向輪(236)沿坯料的內壁向外移動，坯料被向上提起；

步驟二：坯料上釉，經步驟一之后，所述運輸組件b(21)攜帶坯料移動至釉池(31)的上方，在之后的移動中，所述導向桿(231)再次下移，坯料浸入所述釉池(31)內，之后，之后旋轉組件(32)帶動坯料旋轉上釉；

步驟三：坯料瀝干，經步驟二之后，在所述限位圈(342)的作用下所述導向桿(231)上移帶動坯料移出所述釉池(31)，所述運輸組件b(21)帶動坯料繼續在所述釉池(31)上方移動并進行瀝干；

步驟四：坯料放料輸出，經步驟三之后，所述運輸組件b(21)攜帶坯料移動至運輸組件c(41)的上方，所述運輸組件b(21)與所述運輸組件c(41)同步運動，所述限位條(2374)及所述接觸桿(2371)上移帶動所述導向輪(236)松開對瓶胚的束縛，之后所述導向桿(231)在所述限位圈(243)的作用下向上移動，所述導向輪(236)移出坯料，坯料被所述運輸組件c(41)輸送。

2.根據權利要求1所述的一種陶瓷上釉工藝，其特征在于，在步驟一中，瓶體上移至其上口與橡膠板(238)的下表面抵觸，所述橡膠板(238)將瓶口封堵的同時配合所述導向輪(236)將坯料固定。

3.根據權利要求1所述的一種陶瓷上釉工藝，其特征在于，在步驟二中，所述導向桿(231)移動至與所述限位圈(342)中的凹陷部b(2433)配合，并且貫穿整個上釉過程。

4.根據權利要求1所述的一種陶瓷上釉工藝，其特征在于，在步驟二中，所述旋轉組件(32)中的齒輪(321)先后與位于所述釉池(31)兩側齒條a(322)及齒條b(323)配合，進而實現坯料在所述釉池(31)內正反轉。

5.根據權利要求1所述的一種陶瓷上釉工藝，其特征在于，在步驟二中，坯料轉動上釉時，限位桿a234在限位輪233的邊緣的配合槽內切換，其余過程中，所述限位桿a234鎖定所述限位輪233。

6.根據權利要求1所述的一種陶瓷上釉工藝，其特征在于，在步驟四中，所述導向桿(231)移動至與所述限位圈(342)的凹陷部c(2433)配合，并貫穿整個放料的過程。

7.根據權利要求1所述的一種陶瓷上釉工藝，其特征在于，在步驟四中，所述限位條(2374)移動沿限位軌b(2376)的上表面接觸，所述接觸桿(2371)上移，驅使所述導向輪(236)向內收回，坯料解除束縛。

8.根據權利要求1所述的一種陶瓷上釉工藝，其特征在于，在步驟1及步驟四中，限位桿b(2373)在上下設置的限位孔(2372)內的切換實現所述接觸桿(2371)上下移動時的自鎖。