[發(fā)明專利]一種基于高階交叉相位的渦旋光整形和多奇點(diǎn)操控方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010150885.9 | 申請(qǐng)日： | 2020-03-06 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN111338091A | 公開（公告）日： | 2020-06-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 王琛;任元;劉通;丁友;王元?dú)J;陳理想;邱松;陳琳琳 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國(guó)人民解放軍戰(zhàn)略支援部隊(duì)航天工程大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | G02B27/28 | 分類號(hào)： | G02B27/28;G02B27/09;G03H1/00 |
| 代理公司： | 北京中政聯(lián)科專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11489 | 代理人： | 陳超 |
| 地址： | 101416*** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 基于 交叉 相位 渦旋 整形 奇點(diǎn) 操控 方法 | ||
1.一種基于高階交叉相位的渦旋光整形和多奇點(diǎn)操控方法，其特征在于：渦旋光是一種具有螺旋波陣面的特殊光場(chǎng)，交叉相位是一種特殊的光場(chǎng)相位結(jié)構(gòu)，3階及以上稱為高階交叉相位，高階交叉相位可以在傳播一段距離的條件下實(shí)現(xiàn)渦旋光的整形和多奇點(diǎn)操控；利用多參量聯(lián)合調(diào)控技術(shù)制備攜帶渦旋光信息與高階交叉相位的全息圖樣，并加載到空間光調(diào)制器，一束線偏振高斯光束照射到空間光調(diào)制器進(jìn)行復(fù)振幅調(diào)制，出射光為攜帶高階交叉相位的渦旋光，傳播一段距離后得到所需形狀與奇點(diǎn)分布的渦旋光，即實(shí)現(xiàn)渦旋光的整形和多奇點(diǎn)操控。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于高階交叉相位的渦旋光整形和多奇點(diǎn)操控方法，其特征在于：利用高階交叉相位實(shí)現(xiàn)渦旋光的整形和多奇點(diǎn)操控，將渦旋光的形狀調(diào)整為多邊形，其邊數(shù)等于高階交叉相位的階數(shù)，渦旋光裂解后的奇點(diǎn)數(shù)等于渦旋光的拓?fù)浜蓴?shù)，奇點(diǎn)分布由相位因子進(jìn)行調(diào)控。
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