[發(fā)明專利]在基底上形成圖案的方法及其應(yīng)用

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010150705.7
• 申請日: 2020-03-06
• 公開（公告）號: CN111538212B
• 公開（公告）日: 2021-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 姜學(xué)松;李甜甜
• 申請（專利權(quán)）人: 上海交通大學(xué)
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;G02B5/18
• 代理公司: 北京東方億思知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258
• 代理人: 趙艷

1.一種在基底上形成圖案的方法，所述方法包括如下步驟：

（a）將光敏材料和聚合物在溶劑中的溶液施涂于所述基底上并干燥，從而形成涂膜，其中，所述光敏材料在紫外光照射下可直接發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)；

（b）穿過非接觸式掩模，對所述涂膜進(jìn)行紫外光照射，在照射過程中，所述光敏材料從涂膜的非曝光區(qū)遷移至曝光區(qū)，使得所述曝光區(qū)按照所述掩模的圖案進(jìn)行生長，從而在所述涂膜上形成所述圖案，

其中所述光敏材料包括下述化合物中的一種或多種：

其中，R₁、R₂、R₅、R₆、R₇、R₈、R₉、R₁₀、R₁₁、R₁₂、R₁₃、R₁₄各自獨立地表示氫、C₁-C₁₀直鏈或支鏈烷基、C₁-C₁₀烷氧基、羥基、羧基、C₃-C₁₀環(huán)烷基、C₆-C₁₄芳基、C₆-C₁₄烷芳基、C₆-C₁₄芳烷基、雜環(huán)，及其衍生物或其組合。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述光敏材料選自蒽類化合物、香豆素類、肉桂酸、脲嘧啶類中的一種或多種。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述聚合物具有成膜性。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述聚合物選自聚苯乙烯、聚苯乙烯(甲基)丙烯酸酯共聚物、聚丙烯酸酯、聚酯、聚氨酯、聚碳酸酯、聚硅氧烷中的一種或多種。

5.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述聚合物選自聚苯乙烯(甲基)丙烯酸酯共聚物。

6.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述聚合物選自聚苯乙烯-丙烯酸丁酯。

7.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述光敏材料與所述聚合物的質(zhì)量比在1：5到10：1的范圍內(nèi)。

8.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述光敏材料與所述聚合物的質(zhì)量比在1：2到5：1的范圍內(nèi)。

9.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述光敏材料與所述聚合物的質(zhì)量比在1：2到3：1的范圍內(nèi)。

10.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述溶劑選自水、醇類、醚類、酮類、甲苯、二氯甲烷、三氯甲烷、1,4-二氧六環(huán)、二甲基亞砜、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺中的一種或多種。

11.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述基底包括塑料、玻璃、彈性體、金屬、硅或其組合。

12.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述掩模被設(shè)置在所述涂膜上方0.1cm或更遠(yuǎn)處。

13.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述涂膜是通過滴涂、噴涂或刮涂形成的。

14.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述紫外光來源于選自LED、高壓汞燈、激光燈的紫外燈源。

15.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述基底是平坦的或曲面的。

16.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述方法還包括在步驟（b）之后，使所述非接觸式掩模旋轉(zhuǎn)一定角度，然后重復(fù)步驟（b）一次或多次，從而在所述涂膜上形成復(fù)雜圖案。