[發(fā)明專利]一種貴金屬增強(qiáng)型半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)氣體傳感器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010150046.7 | 申請(qǐng)日: | 2020-03-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111272827B | 公開(公告)日: | 2022-12-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉黎明;惠裕充;遲鋒;易子川;張智 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 電子科技大學(xué)中山學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | G01N27/12 | 分類號(hào): | G01N27/12 |
| 代理公司: | 重慶萃智邦成專利代理事務(wù)所(普通合伙) 50231 | 代理人: | 舒夢(mèng)來 |
| 地址: | 528402 *** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 貴金屬 增強(qiáng) 半導(dǎo)體 異質(zhì)結(jié) 氣體 傳感器 | ||
1.一種貴金屬增強(qiáng)型半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)氣體傳感器,其特征在于:包括基底層(1),所述基底層(1)的上方設(shè)置有半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)(2),所述半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)(2)的上方設(shè)置有多個(gè)間隔排列的貴金屬塊(7),所述基底層(1) 與半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)(2)之間還設(shè)置有相互間隔的第一電極(3)、第二電極(4);所述半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)(2)包括半導(dǎo)體層(5),設(shè)置于半導(dǎo)體層(5)上方的多個(gè)相互間隔的半導(dǎo)體塊(6);所述半導(dǎo)體塊(6)為周期排列;所述貴金屬塊(7)設(shè)置于半導(dǎo)體層(5)的上方;所述貴金屬塊(7)與半導(dǎo)體塊(6)間隔排列,所述貴金屬塊(7)的高度高于所述半導(dǎo)體塊(6)的高度;所述半導(dǎo)體層(5)和貴金屬塊(7)形成肖特基結(jié),所述半導(dǎo)體層(5)中電子的能級(jí)比貴金屬塊(7)的功函數(shù)低,通過光垂直入射貴金屬塊(7)引發(fā)表面等離激元共振,從而在貴金屬塊(7)表面聚集形成強(qiáng)電場(chǎng)。
2.如權(quán)利要求 1 所述的一種貴金屬增強(qiáng)型半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)氣體傳感器, 其特征在于:所述半導(dǎo)體層(5)與半導(dǎo)體塊(6)為不同的半導(dǎo)體材料制成。
3.如權(quán)利要求 1 所述的一種貴金屬增強(qiáng)型半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)氣體傳感器, 其特征在于:所述半導(dǎo)體層(5)的價(jià)帶和導(dǎo)帶均高于半導(dǎo)體塊(6)的價(jià)帶和導(dǎo)帶。
4.如權(quán)利要求 1 所述的一種貴金屬增強(qiáng)型半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)氣體傳感器, 其特征在于:所述半導(dǎo)體層(5)是二氧化鈦(TiO2)制成,所述半導(dǎo)體塊(6)是二硫化鎢制成。
5.如權(quán)利要求 1 所述的一種貴金屬增強(qiáng)型半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)氣體傳感器, 其特征在于:所述貴金屬塊(7)為周期排列。
6.如權(quán)利要求 1 所述的一種貴金屬增強(qiáng)型半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)氣體傳感器, 其特征在于:所述貴金屬塊(7)為楔形。
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