[發(fā)明專利]高空拋物檢測(cè)方法、裝置及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010148595.0
• 申請(qǐng)日: 2020-03-05
• 公開（公告）號(hào): CN111382692A
• 公開（公告）日: 2020-07-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 裴植;邵煥新;孔淑萍;蔡志勇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深學(xué)科技（杭州）有限公司
• 主分類號(hào): G06K9/00
• 分類號(hào): G06K9/00;G06K9/34;G06T7/20
• 代理公司: 上海聯(lián)科律師事務(wù)所 31350
• 代理人: 趙旭

本發(fā)明提供了一種高空拋物檢測(cè)方法、裝置及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其中高空拋物檢測(cè)方法，包括以下步驟：S1、獲取高樓監(jiān)控圖像；S2、通過(guò)單高斯模型和雙高斯模型進(jìn)行圖像檢測(cè)；S3、設(shè)定判別式對(duì)圖像的像素點(diǎn)進(jìn)行判別，并更新模型參數(shù)，針對(duì)亮度突變點(diǎn)建立自適應(yīng)判別模型，結(jié)合判別式的判別結(jié)果，構(gòu)造判別條件消除亮度突變點(diǎn)，分割得到目標(biāo)點(diǎn)；通過(guò)連通區(qū)域約束得到目標(biāo)區(qū)域。本高空拋物檢測(cè)方法、裝置及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，能夠準(zhǔn)確對(duì)高空拋物進(jìn)行檢測(cè)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及高空拋物檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種高空拋物檢測(cè)方法、裝置及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。

背景技術(shù)

高空拋物現(xiàn)象曾被稱為“懸在城市上空的痛”。高空拋物不僅污染城市環(huán)境，還對(duì)地面上的人及財(cái)物造成威脅。目前，高空拋物已經(jīng)成為了城市管理的毒瘤，每個(gè)城市都投入了大量的資源對(duì)此進(jìn)行整治，但收效甚微。

目前在進(jìn)行高空拋物檢測(cè)時(shí)，主要是通過(guò)攝像頭進(jìn)行視頻拍攝。由于高空目標(biāo)物體受環(huán)境影響，像素點(diǎn)會(huì)出現(xiàn)隨機(jī)起伏、閃爍和圖像中物體的位置漂移，這使得傳統(tǒng)的背景建模方法在高空環(huán)境下難以準(zhǔn)確檢測(cè)運(yùn)動(dòng)目標(biāo)。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種高空拋物檢測(cè)方法、裝置及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，能夠準(zhǔn)確對(duì)高空拋物進(jìn)行檢測(cè)。

本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的：

一種高空拋物檢測(cè)方法，包括以下步驟：

S1、獲取高樓監(jiān)控圖像；

S2、通過(guò)單高斯模型和雙高斯模型進(jìn)行圖像檢測(cè)；

S3、設(shè)定判別式對(duì)圖像的像素點(diǎn)進(jìn)行判別，并更新模型參數(shù)，針對(duì)亮度突變點(diǎn)建立自適應(yīng)判別模型，結(jié)合判別式的判別結(jié)果，構(gòu)造判別條件消除亮度突變點(diǎn)，分割得到目標(biāo)點(diǎn)；通過(guò)連通區(qū)域約束得到目標(biāo)區(qū)域。

優(yōu)選的，所述單高斯模型的建模方法為：

用單高斯模型建模背景平坦區(qū)域；

S21、設(shè)任意s幀的任意像素位置(x，y)服從一維正態(tài)分布N(μ，σ²)，其中μ和σ²分別為該像素高斯分布的平均值和方差；令I(lǐng)(x,y,t)表示像素點(diǎn)(x，y)在t時(shí)刻的像素值，則其概率為：

S22、每一個(gè)像素點(diǎn)的背景模型由包括當(dāng)前時(shí)刻的期望值μ_t(x,y)和標(biāo)準(zhǔn)差σ_t(x,y)構(gòu)成；對(duì)于t時(shí)刻的像素值I(x,y,t)，令Flag(x,y,t)表示是否判定為背景，則有：

S23、檢測(cè)完畢后對(duì)被判定為背景的像素的背景模型進(jìn)行更新：

優(yōu)選的，所述雙高斯模型的建模方法為：

用雙高斯模型建模背景中的物體邊緣區(qū)域：

背景中物體邊緣區(qū)域一點(diǎn)(x,y)，(x,y)∈Q亮度X_t的變化用雙高斯模型來(lái)描述:

其中分別是t時(shí)刻第i個(gè)高斯分布的權(quán)重、均值和標(biāo)準(zhǔn)差，i＝{1,2}，Q是背景中物體邊緣區(qū)域像素；雙高斯分布的參數(shù)分為兩組，分別是和

優(yōu)選的，在所述S3之后，還包括：

S4、目標(biāo)跟蹤；

通過(guò)對(duì)目標(biāo)區(qū)域進(jìn)行跟蹤，識(shí)別目標(biāo)特性，判斷是否為高空拋物。

本發(fā)明還提出了一種高空拋物檢測(cè)裝置，包括：

獲取模塊；用于獲取高樓監(jiān)控圖像；