[發明專利]電弧等離子體炬用引燃氣體分配環在審
| 申請號: | 202010148464.2 | 申請日: | 2020-03-05 |
| 公開(公告)號: | CN111206233A | 公開(公告)日: | 2020-05-29 |
| 發明(設計)人: | 楊衛正 | 申請(專利權)人: | 楊衛正 |
| 主分類號: | C23C16/27 | 分類號: | C23C16/27;C23C16/503 |
| 代理公司: | 天津企興智財知識產權代理有限公司 12226 | 代理人: | 陳雅潔 |
| 地址: | 300000 *** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電弧 等離子體 引燃 氣體 分配 | ||
1.一種電弧等離子體炬用引燃氣體分配環,具有上環體(100)、中環體(200)和下環體(300);所述上環體(100)的上表面呈具有凹凸結構的異形面(102),能夠與絕緣套(6)的下端面匹配,所述下環體(300)的下表面具有與其外部陽極匹配壓緊的圓錐面(302);所述中環體(200)上繞軸均勻開設有若干切向孔(201),所述切向孔(201)將流經分配環環體之外的氣流導入分配環環體之內流出。
2.根據權利要求1所述的電弧等離子體炬用引燃氣體分配環,其特征在于,所述氣體分配環為分體設計或一體成型設計,材質為絕緣膠木或者玻璃絲布板。
3.根據權利要求1所述的電弧等離子體炬用引燃氣體分配環,其特征在于,所述上環體(100)具有最小內徑的內壁(101)能夠與套裝于其內部的電極間隙配合,所述下環體(300)具有最大外徑的外壁(301)能夠與套裝于其外部的電極間隙配合;
所述異形面(102)的形態包括梯形面或者凹槽面。
4.根據權利要求1所述的電弧等離子體炬用引燃氣體分配環,其特征在于,所述切向孔(201)的開孔方向與該孔在所在圓上對應的半徑方向呈70°-90°夾角,優選呈90°夾角;
所述切向孔(201)的數量為3-24個;
所述切向孔的直徑為0.5-8.0mm。
5.根據權利要求1所述的電弧等離子體炬用引燃氣體分配環,其特征在于,所述切向孔(201)可以是直孔,也可以孔徑沿氣流方向由大變小。
6.根據權利要求1所述的電弧等離子體炬用引燃氣體分配環,其特征在于,所述切向孔(201)的孔道設置于同一水平面上,或者,
所述切向孔(201)的孔道軸線與分配環環體軸線呈一定的夾角,角度以50°-90°為佳。
7.根據權利要求1所述的電弧等離子體炬用引燃氣體分配環,其特征在于,所述分配環環體之外具有與切向孔(201)連通的進氣導流道(8),所述進氣導流道(8)呈環形;所述進氣導流道(8)由上環體(100)和中環體(200)的外壁與第一陽極(7)的側壁共同圍合而成,或者,由上環體(100)和中環體(200)的外壁與下環體(300)向上延伸的部分凸起結構(303)共同圍合而成。
8.根據權利要求1所述的電弧等離子體炬用引燃氣體分配環,其特征在于,所述分配環環體之內具有與切向孔(201)連通的出氣導流道(9),所述出氣導流道(9)呈環形;所述出氣導流道(9)由陰極(5)和下環體(300)的內壁共同圍合而成,下環體(300)的內壁結構為圓柱面、曲面、斜面、或者凹凸面。
9.權利要求1所述的電弧等離子體炬用引燃氣體分配環在等離子炬中陰極和第一陽極之間的應用。
10.權利要求1所述的電弧等離子體炬用引燃氣體分配環在氣相沉積制備金剛石材料方面的應用。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





