[發明專利]一種暖機方法有效
| 申請號： | 202010147538.0 | 申請日： | 2020-03-05 |
| 公開（公告）號： | CN111370283B | 公開（公告）日： | 2023-01-17 |
| 發明（設計）人： | 徐龍江;張君 | 申請（專利權）人： | 北京北方華創微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京思創畢升專利事務所 11218 | 代理人： | 孫向民;廉莉莉 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 方法 | ||
1.一種暖機方法，用于半導體刻蝕工藝，其特征在于，所述方法包括：
向刻蝕腔室內通入第一刻蝕氣體，對置于所述刻蝕腔室內的暖機片進行刻蝕；其中，所述第一刻蝕氣體能夠與所述暖機片發生反應形成含碳副產物，并覆蓋所述刻蝕腔室內石英窗的表面；
向所述刻蝕腔室內通入第二刻蝕氣體，對所述暖機片進行刻蝕，形成刻蝕副產物并覆蓋于所述刻蝕腔室內壁。
2.根據權利要求1所述的暖機方法，其特征在于，所述第一刻蝕氣體為含有氧氣和氮氣的混合氣體。
3.根據權利要求1所述的暖機方法，其特征在于，在通入所述第一刻蝕氣體的過程中，逐漸降低所述刻蝕腔室的壓力以及所述第一刻蝕氣體的通入量，直至在所述刻蝕腔室內壁和所述石英窗上均形成第一預定厚度的所述含碳副產物。
4.根據權利要求3所述的暖機方法，其特征在于，所述第一預定厚度為3-30微米。
5.根據權利要求3所述的暖機方法，其特征在于，在通入所述第一刻蝕氣體的過程中，依次采用以下工藝參數：
壓力為45-55毫托，所述第一刻蝕氣體通入量為180-220毫升/分鐘，刻蝕時間為5-7分鐘；
壓力為25-35毫托，所述第一刻蝕氣體通入量為180-220毫升/分鐘，刻蝕時間為4-6分鐘；
壓力為8-12毫托，所述第一刻蝕氣體通入量180-220毫升/分鐘，刻蝕時間為5-7分鐘；
壓力為4-6毫托，所述第一刻蝕氣體通入量130-170毫升/分鐘，刻蝕時間為6-8分鐘；
壓力為2-4毫托，所述第一刻蝕氣體通入量80-120毫升/分鐘，刻蝕時間為7-9分鐘。
6.根據權利要求1所述的暖機方法，其特征在于，還包括：
向所述刻蝕腔室內通入第二刻蝕氣體之前，提高所述刻蝕腔室的壓力。
7.根據權利要求1所述的暖機方法，其特征在于，所述第二刻蝕氣體為含有三氯化硼或含有三氟甲烷與三氯化硼的混合氣體。
8.根據權利要求1所述的暖機方法，其特征在于，在通入所述第二刻蝕氣體的過程中，逐漸降低所述刻蝕腔室的壓力以及所述第二刻蝕氣體的通入量，直至在所述刻蝕腔室內壁上形成第二預定厚度的刻蝕副產物。
9.根據權利要求8所述的暖機方法，其特征在于，所述第二預定厚度大于2微米。
10.根據權利要求8所述的暖機方法，其特征在于，在通入所述第二刻蝕氣體的過程中，依次采用以下工藝參數：
壓力為45-55毫托，所述第二刻蝕氣體通入量為180-220毫升/分鐘，刻蝕時間為5-7分鐘；
壓力為25-35毫托，所述第二刻蝕氣體通入量為180-220毫升/分鐘，刻蝕時間為4-6分鐘；
壓力為8-12毫托，所述第二刻蝕氣體通入量180-220毫升/分鐘，刻蝕時間為5-7分鐘；
壓力為4-6毫托，所述第二刻蝕氣體通入量130-170毫升/分鐘，刻蝕時間為6-8分鐘；
壓力為2-4毫托，所述第二刻蝕氣體通入量80-120毫升/分鐘，刻蝕時間為7-9分鐘。
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