[發(fā)明專利]一種二維掃描反射陣在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010146857.X | 申請日： | 2020-03-05 |
| 公開（公告）號： | CN111463574A | 公開（公告）日： | 2020-07-28 |
| 發(fā)明（設計）人： | 左樂;張瑩;肖開奇;李洋;鄢振麟;陳宏;張浩斌;范保華;何清明 | 申請（專利權）人： | 中國電子科技集團公司第二十九研究所 |
| 主分類號： | H01Q3/20 | 分類號： | H01Q3/20;H01Q19/10;H01Q13/02 |
| 代理公司： | 成都九鼎天元知識產(chǎn)權代理有限公司 51214 | 代理人： | 夏琴 |
| 地址： | 610036 四川*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 二維 掃描 反射 | ||
【權利要求書】：
1.一種二維掃描反射陣，其特征在于，包括：饋源和反射陣，所述饋源的位置固定，所述饋源波束指向反射陣；所述反射陣繞陣中心點轉(zhuǎn)動。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種二維掃描反射陣，其特征在于，所述反射陣的反射陣面為平面。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的一種二維掃描反射陣，其特征在于，所述反射陣的背面設有不同的金屬圖形。
4.根據(jù)權利要求1或2所述的一種二維掃描反射陣，其特征在于，所述反射陣內(nèi)設有反射單元，所述反射單元在所述反射陣內(nèi)呈周期性排列。
5.根據(jù)權利要求4所述的一種二維掃描反射陣，其特征在于，所述周期性的排列方式為三角網(wǎng)格形式排列。
6.根據(jù)權利要求4所述的一種二維掃描反射陣，其特征在于，所述反射單元包括金屬圖形、基板和金屬地板，所述金屬圖形設置在所述基板的一側(cè)，所述金屬地板設置在基板的另一側(cè)。
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