[發明專利]一種無機鈣鈦礦納米復合纖維膜及其應用方法

有效

• 申請號: 202010146586.8
• 申請日: 2020-03-05
• 公開（公告）號: CN111321519B
• 公開（公告）日: 2022-04-29
• 發明（設計）人: 林紅;張琦;鄧曉楠;李雙壽;湯彬;譚承宇
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 主分類號: D04H1/728
• 分類號: D04H1/728;D01D5/00;D06C7/00
• 代理公司: 北京眾合誠成知識產權代理有限公司 11246
• 代理人: 陳波

1.一種無機鈣鈦礦納米復合纖維膜，其特征在于，采用高速、高壓射流成型技術制備出纖維交錯構織的網狀結構納米纖維膜，所述纖維膜表面及其內部均勻分散鈣鈦礦CsPbX₃，X為鹵族元素，及其納米復合材料；所述纖維膜及復合材料表面分散或附著增益材料；所述射流的液體包括以下組分：

所述CsPbX₃鈣鈦礦及其納米復合材料為納米二維材料表面原位生長CsPbX₃納米復合材料；

所述增益材料用于增強CsPbX₃鈣鈦礦及其納米復合材料的熒光特性或催化活性，該增益材料包括碳量子點、石墨烯量子點、II-VI族量子點、III-V族量子點中的一種或幾種；

所述II-VI族量子點包括PbS、CdS、CdSe、ZnS，所述III-V族量子點包括InP；

所述高分子聚合物為聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯、聚四氟乙烯、聚乙酸乙烯酯、聚偏二氟乙烯、聚丙烯腈中的一種或幾種；

所述纖維膜的制備包括高速、高壓射流成型制備納米復合纖維膜，以及低溫熱處理鈍化納米復合纖維膜表面缺陷，提高其在復雜環境條件下結構和性能的穩定性；

其中，所述的高速、高壓射流成型，采用的高壓為5-25kV；噴射速度為0.1-10mm/min；

所述的低溫熱處理鈍化，溫度為20-300℃、濕度為20-80％，處理時間為1-24h，氣氛為真空、空氣、氬氣、氮氣中的一種或幾種。

2.根據權利要求1所述纖維膜，其特征在于，所述溶劑包括甲苯、鄰二甲苯、間二甲苯、對二甲苯、正己烷、十四烷、乙酸乙酯、乙酸甲酯、甲酸乙酯、無水乙醇、異丙醇、乙二醇、二氯甲烷、三氯甲烷、1,2-二氯乙烷中的一種或幾種。

3.根據權利要求1所述纖維膜，其特征在于，采用高速、高壓射流成型技術，直接在剛性、柔性、曲面基底表面進行快速印制成型所述纖維膜。

4.根據權利要求1所述纖維膜的應用，其特征在于，所述纖維膜具有高熒光、高催化活性的特性，并可作為具有高熒光、高催化活性的活性材料存儲的有效方式。

5.根據權利要求4所述的應用，其特征在于，所述纖維膜作為噴墨打印墨水的原材料。

6.根據權利要求4所述的應用，其特征在于，所述纖維膜應用于防偽識別、安全監測、建筑光伏一體化、生物醫療和可見光無線通信領域。

7.根據權利要求4所述的應用，其特征在于，所述纖維膜應用于污染物降解、能源轉化及醫療防護領域。