[發(fā)明專利]壓力檢測方法及裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010146310.X
• 申請日: 2020-03-05
• 公開（公告）號(hào): CN111289161A
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬求山;洪明星
• 申請（專利權(quán)）人: 舍弗勒技術(shù)股份兩合公司
• 主分類號(hào): G01L1/24
• 分類號(hào): G01L1/24
• 代理公司: 上海知錦知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31327
• 代理人: 李麗

1.一種壓力檢測方法，其特征在于，包括：

測定待檢測點(diǎn)的光譜，所述待檢測點(diǎn)沉積有力致變色材料；

將所述待檢測點(diǎn)的光譜與預(yù)設(shè)的光譜壓力表的光譜進(jìn)行比較，得到所述待檢測點(diǎn)的表面壓力。

2.如權(quán)利要求1所述的壓力檢測方法，其特征在于，所述光譜為可見漫反射光譜。

3.如權(quán)利要求2所述的壓力檢測方法，其特征在于，所述力致變色材料為2-(2-(3,3-二甲基-3H-吲哚-2-基)乙烯)-4-硝基-苯酚。

4.如權(quán)利要求3所述的壓力檢測方法，其特征在于，所述將所述待檢測點(diǎn)的光譜與預(yù)設(shè)的光譜壓力表的光譜進(jìn)行比較的步驟包括：

將所述待檢測點(diǎn)的光譜的半峰高與預(yù)設(shè)的光譜壓力表的光譜的半峰高進(jìn)行比較。

5.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的壓力檢測方法，其特征在于，所述測定的待檢測點(diǎn)的光譜的步驟包括：

利用設(shè)置于所述軸箱的上方的光譜儀測定所述軸箱的上表面上的待檢測點(diǎn)的光譜。

6.一種壓力檢測裝置，其特征在于，包括：

光譜測定單元，適于測定所述待檢測點(diǎn)的光譜，所述待檢測點(diǎn)沉積有力致變色材料。

光譜比較單元，適于將所述待檢測點(diǎn)的光譜與預(yù)設(shè)的光譜壓力表的光譜進(jìn)行比較，得到所述待檢測點(diǎn)的表面壓力。

7.如權(quán)利要求8所述的壓力檢測裝置，其特征在于，所述光譜測定單元為可見漫反射光譜儀，所述光譜為可見漫反射光譜。

8.如權(quán)利要求9所述的壓力檢測裝置，其特征在于，所述力致變色材料為2-(2-(3,3-二甲基-3H-吲哚-2-基)乙烯)-4-硝基-苯酚。

9.如權(quán)利要求9所述的壓力檢測裝置，其特征在于，所述光譜比較單元適于將所述待檢測點(diǎn)的光譜的半峰高與預(yù)設(shè)的光譜壓力表的光譜的半峰高進(jìn)行比較。

10.如權(quán)利要求6-9任一項(xiàng)所述的壓力檢測裝置，其特征在于，所述待檢測點(diǎn)位于軸箱的上表面；所述光譜測定單元設(shè)置于所述軸箱的上方，所述光譜測定單元適于測定所述軸箱的上表面上的所述待檢測點(diǎn)的光譜。