[發明專利]基板載體設備、基板處理設備以及調節基座溫度的方法

在審

• 申請號: 202010146206.0
• 申請日: 2020-03-05
• 公開（公告）號: CN111668153A
• 公開（公告）日: 2020-09-15
• 發明（設計）人: 西脅和浩
• 申請（專利權）人: ASMIP私人控股有限公司
• 主分類號: H01L21/687
• 分類號: H01L21/687;H01L21/67
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 焦玉恒

1.一種基板載體設備，包括：

軸；

至少一個載體臂，其固定在軸上并配置為隨著軸旋轉而旋轉；以及

至少一個溫度計，其固定在載體臂上。

2.根據權利要求1所述的基板載體設備，其中，所述載體臂是多個載體臂中的一個，所述溫度計設置在多個載體臂中的一個上。

3.根據權利要求1所述的基板載體設備，其中，所述載體臂是多個載體臂中的一個，所述多個載體臂全部都設置有所述溫度計。

4.根據權利要求1所述的基板載體設備，其中，所述溫度計是多個溫度計中的一個，多個溫度計固定在每個載體臂上。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的基板載體設備，其中，所述溫度計暴露在所述載體臂的后表面上。

6.根據權利要求1所述的基板載體設備，其中，所述載體臂包括：與所述軸連接的主體部；從所述主體部分支的分支部；以及延伸部，其與主體部連接并且位于距所述軸比主體部更遠，

所述溫度計是多個溫度計中的一個，并且

所述溫度計固定在所述主體部和延伸部上。

7.根據權利要求1至4中任一項所述的基板載體設備，其中，所述溫度計是熱電偶或電阻溫度傳感器。

8.一種基板處理設備，包括：

基板載體設備，其包括軸、固定在軸上并配置為隨著軸旋轉而旋轉的至少一個載體臂和固定在載體臂上的至少一個溫度計；

基座；

加熱器，其配置為加熱基座；

溫度調節器，其配置為控制加熱器；以及

控制單元，其配置為獲取由溫度計獲得的基座的測量溫度并控制溫度調節器，該測量溫度是表面溫度。

9.根據權利要求8所述的基板處理設備，其中，所述基板處理設備包括傳送單元，其將來自所述溫度計的測量結果轉換為數字數據，并將所述數字數據發送至所述控制單元。

10.根據權利要求8所述的基板處理設備，其中，所述控制單元基于測量溫度和在獲得測量溫度時的加熱器的溫度以更新的偏移來控制所述溫度調節器，以使所述表面溫度接近目標溫度。

11.一種調節基座溫度的方法，包括：

用固定在載體臂上的至少一個溫度計測量基座的表面溫度；以及

修改加熱基座的加熱器的控制的細節，以減小由溫度計獲得的測量溫度與目標溫度之間的差。

12.根據權利要求11所述的調節基座溫度的方法，其中，如果所述差大于預定值，則修改所述控制。

13.根據權利要求11所述的調節基座溫度的方法，其中，在所述表面溫度的測量中，在所述載體臂旋轉的同時測量多個基座的表面溫度。

14.根據權利要求13所述的調節基座溫度的方法，其中，隨著所述溫度計獲得的測量溫度與目標溫度之間的差的增大，所述載體臂的旋轉速度減小。

15.根據權利要求11所述的調節基座溫度的方法，其中，在所述表面溫度的測量中，執行所述基座的表面溫度的映射。

16.根據權利要求11所述的調節基座溫度的方法，其中，在所述表面溫度的測量中，使所述載體臂靠近所述基座。

17.根據權利要求11所述的調節基座溫度的方法，其中，在所述控制的修改中，用于控制所述加熱器的偏移被更新。