[發(fā)明專(zhuān)利]一種核孔膜工業(yè)生產(chǎn)用的重離子生產(chǎn)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010146079.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-03-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111292866B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-02-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王兵;孫良亭;莫丹;張金泉;王賢武;姚慶高;吳巍;馬藝準(zhǔn);楊龍;吳北民;盧旺;楊建成;胡正國(guó);徐瑚珊 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院近代物理研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G21K5/04 | 分類(lèi)號(hào): | G21K5/04;H05H7/00 |
| 代理公司: | 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245 | 代理人: | 謝斌 |
| 地址: | 730000 *** | 國(guó)省代碼: | 甘肅;62 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 核孔膜 工業(yè)生產(chǎn) 離子 生產(chǎn) 裝置 | ||
1.一種核孔膜工業(yè)生產(chǎn)用的重離子生產(chǎn)裝置,其特征在于,包括離子源、LEBT束線(1)、粒子加速器(2)、HEBT束線(3)和膜照射終端(4);
所述離子源用于產(chǎn)生高電荷態(tài)的重離子束流并對(duì)重離子束流進(jìn)行初級(jí)加速;
所述LEBT束線(1)設(shè)置在所述離子源的出口和所述粒子加速器(2)的入口之間,用于對(duì)所述離子源產(chǎn)生的重離子束流進(jìn)行分析,以根據(jù)不同類(lèi)型核孔膜需求選定適合加速的重離子,并對(duì)所選定的重離子束流進(jìn)行預(yù)加速,然后匹配傳輸至所述粒子加速器(2);所述LEBT束線(1)同時(shí)與若干個(gè)所述離子源連接,且若干個(gè)所述離子源在極短時(shí)間間隔內(nèi)交替運(yùn)行;
所述粒子加速器(2)對(duì)重離子束流再次進(jìn)行主加速,然后注入到所述HEBT束線(3);所述粒子加速器(2)為超導(dǎo)回旋加速器,用于將重離子束流加速到單核能約為5MeV/u至20MeV/u;
所述HEBT束線(3)將注入的重離子束流劈分成若干股重離子束流后分別傳輸至若干個(gè)膜照射終端(4),所述膜照射終端(4)將重離子束流引出并對(duì)放置于大氣環(huán)境中的薄膜進(jìn)行照射。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的重離子生產(chǎn)裝置,其特征在于,所述LEBT束線(1)包括依次設(shè)置的:
第一螺線管磁透鏡(11),用于對(duì)引出重離子束流進(jìn)行聚焦或散焦;
雙向校正磁鐵(12),用于調(diào)整重離子束流至中心位置;
分析二極磁鐵(13),用于分析重離子種類(lèi)并選定適合加速的重離子;
第一組合四極磁鐵(14),用于對(duì)選定的重離子束流進(jìn)行聚焦或散焦;
雙向偏轉(zhuǎn)二極磁鐵(15),用于使重離子束流的方向偏轉(zhuǎn);
第二組合四極磁鐵(16)和第二螺線管磁透鏡(17),用于對(duì)重離子束流進(jìn)行聚焦或散焦。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的重離子生產(chǎn)裝置,其特征在于,所述HEBT束線(3)包括依次設(shè)置的:
劈束裝置(31),至少一個(gè)所述劈束裝置(31)沿所述HEBT束線(3)的傳輸方向依次放置,用于將所述粒子加速器(2)引出的一束重離子束流進(jìn)行分割以劈分成若干股重離子束;
偏轉(zhuǎn)二極磁鐵(32),用于使重離子束流的方向偏轉(zhuǎn)以傳輸至所述膜照射終端(4);
聚焦四極磁鐵(33),用于對(duì)引出重離子束流進(jìn)行聚焦或散焦;
水平掃描磁鐵(34)和垂直掃描磁鐵(35),用于使重離子束流的束斑均勻。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的重離子生產(chǎn)裝置,其特征在于,所述離子源為超導(dǎo)離子源和/或ECR離子源。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的重離子生產(chǎn)裝置,其特征在于,所述離子源產(chǎn)生的高電荷態(tài)重離子的平均束流強(qiáng)度為百微安量級(jí)。
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