[發(fā)明專利]計(jì)算機(jī)斷層掃描的散射校正方法、裝置和存儲(chǔ)介質(zhì)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010146050.6
• 申請(qǐng)日: 2020-03-05
• 公開（公告）號(hào): CN113362404A
• 公開（公告）日: 2021-09-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 汪洋;張國(guó)慶
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海西門子醫(yī)療器械有限公司
• 主分類號(hào): G06T11/00
• 分類號(hào): G06T11/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種計(jì)算機(jī)斷層掃描的散射校正方法(100)，其特征在于，包括：

確定單個(gè)投影中X射線穿過掃描目標(biāo)后的衰減值的像素密度及該衰減值的像素面積密度(101)；

基于所述像素密度及所述像素面積密度確定該單個(gè)投影的二階校正系數(shù)(102)；

基于該二階校正系數(shù)，對(duì)該單個(gè)投影中每個(gè)像素的散射校正值做二階校正(103)；

基于所述每個(gè)像素的二階校正后的散射校正值，對(duì)該單個(gè)投影中每個(gè)像素檢測(cè)到的信號(hào)強(qiáng)度值分別執(zhí)行校正(104)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計(jì)算機(jī)斷層掃描的散射校正方法(100)，其特征在于，所述確定單個(gè)投影中X射線穿過掃描目標(biāo)后的衰減值的像素密度及該衰減值的像素面積密度(101)包括：

確定所述像素密度ρ和所述像素面積密度τ，其中ρ＝A_total/n_size，τ＝A_total/n_size²；

其中：n_size為檢測(cè)到衰減值大于零的像素的總數(shù)；A_total為全部像素檢測(cè)到的衰減值的總和。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的計(jì)算機(jī)斷層掃描的散射校正方法(100)，其特征在于，所述二階校正系數(shù)包括：寬幅散射與窄幅散射之間的比例因子r及散射強(qiáng)度縮放因子γ；

所述基于像素密度及像素面積密度確定該單個(gè)投影的二階校正系數(shù)(102)包括：

基于像素面積密度τ確定所述比例因子，其中：r＝r₀+(τ-τ₀)/c₁；

基于像素密度ρ確定所述散射強(qiáng)度縮放因子，其中：γ＝γ₀-c₂·ρ²；

其中：

r₀為比例因子的預(yù)設(shè)值；

τ₀為像素而積密度的預(yù)設(shè)值；

γ₀為散射強(qiáng)度縮放因子的預(yù)設(shè)值；

c₁為第一預(yù)設(shè)系數(shù)；

c₂為第二預(yù)設(shè)系數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的計(jì)算機(jī)斷層掃描的散射校正方法(100)，其特征在于，

所述基于該二階校正系數(shù)，對(duì)該單個(gè)投影中每個(gè)像素的散射校正值做二階校正(103)包括：

基于比例因子r和散射強(qiáng)度縮放因子γ確定第k個(gè)像素的二階校正后的散射校正值δ_Correc(k)；

其中：δ_Correct(k)＝(δ⁰(k)*Λ(n₁)+r·δ⁰(k)*Λ(n₂))·γ；

其中：

δ⁰(k)為第k個(gè)像素點(diǎn)的理論計(jì)算散射校正值；

Λ(n₁)為計(jì)算機(jī)斷層掃描的第一點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)；

Λ(n₂)為計(jì)算機(jī)斷層掃描的第二點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)；

k為像素的編號(hào)，其中k的取值范圍為[0，N]，N為像素的最大編號(hào)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的計(jì)算機(jī)斷層掃描的散射校正方法(100)，其特征在于，所述基于每個(gè)像素的二階校正后的散射校正值，對(duì)該單個(gè)投影中每個(gè)像素檢測(cè)到的信號(hào)強(qiáng)度值分別執(zhí)行校正(104)包括：

針對(duì)第k個(gè)像素，計(jì)算檢測(cè)到的信號(hào)強(qiáng)度值的校正值M(k)；其中M(k)＝M₀(k)-δ_Correct(k)；

其中M₀(k)為第k個(gè)像素檢測(cè)到的信號(hào)強(qiáng)度值的原始值。