[發明專利]一種采用冷噴涂制備抗輻照鉭涂層的方法有效
| 申請號： | 202010143434.2 | 申請日： | 2020-03-04 |
| 公開（公告）號： | CN111235562B | 公開（公告）日： | 2022-01-14 |
| 發明（設計）人： | 熊天英;趙鶴然;唐俊榕;杜昊;王吉強;劉晗琿;沈艷芳;楊穎;毛天亮 | 申請（專利權）人： | 中國科學院金屬研究所;中國電子科技集團公司第四十七研究所 |
| 主分類號： | C23C24/04 | 分類號： | C23C24/04 |
| 代理公司： | 沈陽優普達知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人： | 張志偉 |
| 地址： | 110016 遼*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 采用 噴涂 制備 輻照 涂層 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種采用冷噴涂制備抗輻照鉭涂層的方法，其特征在于，在封裝后的器件基體上采用冷噴涂制備抗輻照Ta涂層，包括以下步驟：
(1)采用冷氣動力噴涂技術，將Al金屬粉末噴涂到器件基體表面，形成金屬打底涂層；
(2)采用冷氣動力噴涂技術，將純Ta粉噴涂到打底涂層上，形成Ta涂層；
步驟(1)中，器件基體為金屬、陶瓷或金屬陶瓷復合基體，Al金屬粉末的形貌為球形或類球形，粒度范圍為10～100μm，打底涂層厚度為30～150μm；
步驟(1)中，冷氣動力噴涂使用壓縮空氣或氮氣作為工作氣體，溫度150～500℃，壓力1.5～3.0MPa，噴涂距離10～40mm；
步驟(2)中，純Ta粉形貌為球形或不規則形狀，粒度范圍為10～100μm，鉭涂層的厚度為100～3000μm；
步驟(2)中，冷氣動力噴涂使用壓縮空氣或氮氣作為工作氣體，溫度300～500℃，壓力1.5～3.0MPa，噴涂距離10～40mm。
2.按照權利要求1所述的采用冷噴涂制備抗輻照鉭涂層的方法，其特征在于，步驟(1)中，器件基體表面在噴涂前進行噴砂處理。
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