[發(fā)明專利]一種基于雙恒溫熱源設(shè)備的太赫茲激光器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010143217.3 | 申請日: | 2020-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN111431018A | 公開(公告)日: | 2020-07-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 歐陽征標;王瓊;黃海濤;肖漢文 | 申請(專利權(quán))人: | 藍科微電子(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | H01S3/04 | 分類號: | H01S3/04;H01S3/041;H01S3/20;H01S3/22;H01S3/00 |
| 代理公司: | 廣州市越秀區(qū)哲力專利商標事務(wù)所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 孫中華 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區(qū)粵*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 恒溫 熱源 設(shè)備 赫茲 激光器 | ||
本發(fā)明公開了一種基于雙恒溫熱源設(shè)備的太赫茲激光器,包括:恒溫腔和工作物質(zhì),工作物質(zhì)存儲于恒溫腔內(nèi);在恒溫腔外連接有為其提供第一恒定溫度的第一恒溫熱源設(shè)備;冷卻腔,冷卻腔連接有為其提供第二恒定溫度的第二恒溫熱源設(shè)備,第一恒定溫度高于第二恒定溫度;冷卻腔通過輸送管與恒溫腔相連通,恒溫腔內(nèi)的工作物質(zhì)經(jīng)輸送管進入冷卻腔中進行冷卻,產(chǎn)生太赫茲輻射;諧振腔,冷卻腔的兩端壁上均設(shè)有透明窗,并在兩個透明窗外分別設(shè)有共軸的高反射鏡和部分反射鏡,形成諧振腔,使太赫茲輻射經(jīng)諧振腔的協(xié)同形成太赫茲激光;所述激光器具有體積小、能量轉(zhuǎn)換效率高的特點。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及太赫茲技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種基于雙恒溫熱源設(shè)備的太赫茲激光器。
背景技術(shù)
太赫茲技術(shù)在通信、傳感、遙感、安保、毒品檢測、醫(yī)療、雷達等方面有廣泛的應(yīng)用,近年來受到了廣泛重視。所有的太赫茲技術(shù)和應(yīng)用都離不開太赫茲源。目前有基于電子技術(shù)頻率上轉(zhuǎn)換、真空技術(shù)自由電子器件、半導(dǎo)體技術(shù)量子級聯(lián)器件和光學(xué)下轉(zhuǎn)換技術(shù)的太赫茲源,都存在效率極低、成本高的問題,大部分源的體積也很大,因而效率高、成本低、體積小的太赫茲源成為目前急需解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明的目的在于提供一種基于雙恒溫熱源設(shè)備的太赫茲激光器,其輸出太赫茲光相干性好、方向性好、體積小、能量轉(zhuǎn)換效率高,具有廣泛應(yīng)用價值。
本發(fā)明的目的采用如下技術(shù)方案實現(xiàn):
一種基于雙恒溫熱源設(shè)備的太赫茲激光器,包括:
恒溫腔和工作物質(zhì),所述恒溫腔內(nèi)存儲有工作物質(zhì);所述恒溫腔連接有為其提供第一恒定溫度的第一恒溫熱源設(shè)備;
冷卻腔,所述冷卻腔連接有為其提供第二恒定溫度的第二恒溫熱源設(shè)備,所述第一恒定溫度高于所述第二恒定溫度,使所述恒溫腔內(nèi)部與所述冷卻腔內(nèi)部存在溫度差;所述冷卻腔通過輸送管與所述恒溫腔相連通,所述恒溫腔內(nèi)的工作物質(zhì)經(jīng)所述輸送管進入所述冷卻腔中進行冷卻,產(chǎn)生太赫茲輻射;
諧振腔,所述冷卻腔的兩端壁上分別設(shè)有第一透明窗和第二透明窗,并在第一透明窗和第二透明窗外分別設(shè)有共軸的高反射鏡和部分反射鏡,形成諧振腔;所述太赫茲輻射經(jīng)所述諧振腔的協(xié)同形成太赫茲激光。
進一步地,所述恒溫腔與所述冷卻腔內(nèi)的溫度差介于0.1攝氏度至800攝氏度之間。
進一步地,所述冷卻腔和所述恒溫腔之間的輸送管數(shù)量設(shè)為至少兩條,并在其中一條輸送管上設(shè)有循環(huán)設(shè)備,通過它將所述冷卻腔內(nèi)的工作物質(zhì)重新輸送至所述恒溫腔內(nèi)。
進一步地,所述循環(huán)設(shè)備連接有用于調(diào)節(jié)其輸送工作物質(zhì)速度的頻率功率控制系統(tǒng),以改變工作物質(zhì)的流量實現(xiàn)太赫茲激光輸出功率的調(diào)整。
進一步地,所述第一恒溫熱源設(shè)備、所述第二恒溫熱源設(shè)備、所述輸送管、所述冷卻腔和所述恒溫腔外包裹有絕熱層。
進一步地,所述第一恒溫熱源設(shè)備和第二恒溫熱源設(shè)備的供熱能源為可燃燒氣體、可燃液體、可燃固體、超聲波、交流電、無線電波、微波、遠紅外光、紅外光、近紅外光、可見光、太陽輻射、等離子體、或地熱中的一種或多種的組合。
進一步地,所述第一恒溫熱源設(shè)備和所述第二恒溫熱源設(shè)備連接有恒溫控制系統(tǒng)以調(diào)節(jié)所述冷卻腔內(nèi)部和所述恒溫腔內(nèi)部的溫度,實現(xiàn)調(diào)節(jié)太赫茲激光的輸出頻率。
進一步地,所述頻率功率控制系統(tǒng)、所述恒溫控制系統(tǒng)連接有工作參數(shù)顯示系統(tǒng),用于接收所述頻率功率控制系統(tǒng)、所述恒溫控制系統(tǒng)的采集參數(shù),并根據(jù)所采集的參數(shù)計算輸出太赫茲激光的工作參數(shù),并進行顯示。
進一步地,所述高反射鏡和部分反射鏡為金屬或介質(zhì)反射鏡,所述高反射鏡對太赫茲波的反射率為90%~100%,其透射率為0;所述部分反射鏡對太赫茲波對反射率為90%~99%,其透射率為1%~10%。
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H01S 利用受激發(fā)射的器件
H01S3-00 激光器,即利用受激發(fā)射對紅外光、可見光或紫外線進行產(chǎn)生、放大、調(diào)制、解調(diào)或變頻的器件
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H01S3-09 .激勵的方法或裝置,例如泵激勵
H01S3-098 .模式鎖定;模式抑制
H01S3-10 .控制輻射的強度、頻率、相位、極化或方向,例如開關(guān)、選通、調(diào)制或解調(diào)
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
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