[發明專利]閥裝置有效
| 申請號: | 202010141747.4 | 申請日: | 2020-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN111664266B | 公開(公告)日: | 2023-10-03 |
| 發明(設計)人: | 橋本考司;瀨古直史;佐野亮 | 申請(專利權)人: | 株式會社電裝 |
| 主分類號: | F16K5/06 | 分類號: | F16K5/06;F16K5/08;F16K27/06;F16K31/04 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 陳珊 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 | ||
本公開涉及一種用于增加或減少流體流量的閥裝置??梢苿訂卧?19)的套筒構件(20)具有第一壓力接收表面(191)和第二壓力接收表面(192)。當閥構件(18)關閉閥座開口部(22a)時,第一壓力接收表面沿與彈簧(28)的偏壓力(Fs)相反的軸向方向接收第一流體壓力。當閥構件(18)關閉閥座開口部(22a)時,第二壓力接收表面沿與彈簧(28)的偏壓力(Fs)的方向相同的軸向方向接收第二流體壓力。使第一表面面積(S1)和第二表面面積(S2)彼此相等。第一和第二表面面積中的每一個是在垂直于軸向方向的虛擬平面(PLa)上的投影部分的面積。當第一和第二壓力接收表面中的每個投影到虛擬平面時,獲得投影部分中的每個。
技術領域
本公開涉及一種用于增加或減少流體流量的閥裝置。
背景技術
例如,如日本專利公開No.2016-53415中所公開的,這種閥裝置在本領域中是已知的。該現有技術的閥裝置包括:球閥構件,其具有球形凸狀的閥表面(球形表面);閥座構件,其具有球形凹狀的閥座(閥座表面);以及彈簧等。彈簧將閥座構件偏壓到球閥構件。由于閥座表面被推向閥表面,因此閥座表面與閥表面之間的間隙被密封。
根據上述現有技術的閥裝置,當閥構件旋轉時,控制閥構件的開口部與閥座構件的開口部之間的連通或連通阻斷。
上述現有技術的閥裝置控制(增加或減少)沿從閥構件到閥座構件的方向通過閥裝置的流體流率。
假設,以這種方式使用這種閥裝置使得閥裝置控制沿從閥座構件到閥構件的相反方向通過閥裝置的流體流率。在這種閥裝置中,當閥裝置關閉時,流體的壓力被施加到與閥表面相對的閥座表面。由于將流體壓力施加到閥座構件及其相關部件,因此,根據閥座構件的形狀及其相關部件,可能增加或減小沿遠離閥構件的方向施加到閥座構件及其相關部件的流體壓力的推力。
如上所述,當由于流體壓力的變化而改變了用于將閥座構件(其是可移動單元的部件中的一個,其上施加有彈簧的偏壓力)推向閥構件的推力時,變得難以將施加于閥座表面的表面壓力保持在恒定值。換句話說,當閥裝置關閉時,其可能不利地影響閥座表面與閥表面之間的密封性能。本公開的發明人通過他們的RD活動發現了上述問題。
發明內容
鑒于以上問題而做出本公開。本公開的目的在于提供一種閥裝置,根據該閥裝置,即使在閥座構件的閥座開口部關閉并且施加到閥座表面的流體壓力改變時,施加于被推向閥表面的閥座表面的表面壓力仍保持為恒定值。
根據本公開的特征之一,本公開的閥裝置增加或減少流體流量,并且包括:
閥殼體;
可移動單元,其沿其軸向方向可移動地設置在閥殼體中并具有沿軸向方向延伸的流體流動通道,使得流體流過該流體流動通道,該可移動單元還具有圍繞閥座開口部形成的閥座表面,該閥座開口部形成在流體流動通道在軸向方向上的軸向內端處;
閥構件,其可旋轉地設置在閥殼體中并具有閥表面,該閥表面在軸向方向上與閥座表面相對并與閥座表面接觸,其中該閥構件可操作地打開或關閉閥座開口部;以及
偏壓構件,其用于產生偏壓力以將可移動單元沿軸向方向偏向至閥構件,使得偏壓構件通過偏壓力將閥座表面推向閥表面。
在閥裝置中,當閥構件打開閥座開口部時,流體從軸向方向的軸向外側向軸向內側流過流體流動通道。
可移動單元具有第一壓力接收表面和第二壓力接收表面,
其中,當閥構件關閉閥座開口部時,第一壓力接收表面沿與偏壓力的方向相反的軸向方向從流體接收第一流體壓力,并且
其中,當閥構件關閉閥座開口部時,第二壓力接收表面沿與第一流體壓力的方向相反的軸向方向從流體接收第二流體壓力。
在上述結構的閥裝置中,第一表面面積和第二表面面積彼此相等,
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