[發明專利]顯示設備及制造該顯示設備的方法

在審

• 申請號: 202010141224.X
• 申請日: 2020-03-04
• 公開（公告）號: CN111987237A
• 公開（公告）日: 2020-11-24
• 發明（設計）人: 尹亨根;李泓燃;姜錫訓;金熙羅;樸秀智;申范秀
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 張逍遙;陳宇

1.一種顯示設備，所述顯示設備包括：

基底；

像素電極，設置在所述基底上；

像素限定層，設置在所述像素電極上，所述像素限定層具有使所述像素電極的中心部分暴露的開口；以及

拒液層，設置在所述像素限定層上，所述拒液層包括具有凹凸結構的上表面。

2.根據權利要求1所述的顯示設備，其中，

所述拒液層包括第一拒液層和第二拒液層，其中，所述第二拒液層定位在所述第一拒液層上，所述第一拒液層包括第一拒液劑，并且所述第二拒液層包括第二拒液劑。

3.根據權利要求2所述的顯示設備，其中，

所述第一拒液劑具有與所述第二拒液劑的第二表面能不同的第一表面能。

4.根據權利要求2所述的顯示設備，其中，

所述第一拒液劑的第一表面能比所述第二拒液劑的第二表面能大。

5.根據權利要求2所述的顯示設備，其中，

所述第一拒液劑和所述第二拒液劑中的每者具有15達因/厘米或更小的表面能，并且所述第一拒液劑的第一表面能比所述第二拒液劑的第二表面能大4達因/厘米至10達因/厘米。

6.一種制造顯示設備的方法，所述方法包括：

制備基底；

在所述基底上形成像素電極；

在所述像素電極上形成像素限定層，所述像素限定層具有使所述像素電極的中心部分暴露的開口；以及

在所述像素限定層上形成拒液層，所述拒液層包括具有凹凸結構的上表面。

7.根據權利要求6所述的方法，其中，

形成所述拒液層的步驟包括：

形成包括用于形成所述像素限定層的有機材料的有機材料層，所述有機材料混合有具有彼此不同的表面能的第一拒液劑和第二拒液劑；

烘烤所述有機材料層并使所述像素限定層、所述第一拒液劑和所述第二拒液劑相分離，使得所述第一拒液劑和所述第二拒液劑定位在所述像素限定層上；

照射等離子體，以去除殘留在所述像素電極的上表面上的拒液的殘留層；以及

在照射所述等離子體之后烘烤所述像素限定層。

8.根據權利要求7所述的方法，其中，

所述第一拒液劑的第一表面能比所述第二拒液劑的第二表面能大。

9.根據權利要求7所述的方法，其中，

混合有所述第一拒液劑和所述第二拒液劑的所述有機材料包含2wt％至5wt％的所述第一拒液劑以及0.5wt％至1wt％的所述第二拒液劑。

10.根據權利要求7所述的方法，其中，

在相分離的步驟中，所述第二拒液劑定位在所述第一拒液劑上。