[發明專利]反射光譜監測裝置和方法

在審

• 申請號: 202010138969.0
• 申請日: 2020-03-03
• 公開（公告）號: CN111208063A
• 公開（公告）日: 2020-05-29
• 發明（設計）人: 趙勇明;楊國文;張艷春;王剛;祁魯漢;趙衛東
• 申請（專利權）人: 度亙激光技術(蘇州)有限公司
• 主分類號: G01N21/01
• 分類號: G01N21/01;G01N21/27;G01N21/552
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 唐菲

1.一種反射光譜監測裝置，其特征在于，包括：

光源，用于發射不同波段的探測光束；

旋轉臺，用于放置待測樣品，并帶動所述待測樣品按照預設轉速進行轉動；

光譜儀，用于接收所述待測樣品在所述探測光束照射下的反射光束，并根據所述反射光束確定所述待測樣品的反射光譜；

其中，所述旋轉臺轉動時，在所述旋轉臺的每個旋轉周期內，所述探測光束照射在所述待測樣品上。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述光譜儀包括：

光接收探頭，用于接收所述待測樣品在所述探測光束照射下的所述反射光束；以及

處理器，連接所述光接收探頭，用于根據所述反射光束，生成所述待測樣品的的反射光譜。

3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述光源為白光光源。

4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述光源為鹵素燈。

5.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述探測光束的波長范圍為400納米～1100納米。

6.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括：

光束準直器，設置在所述光源的發射端，用于準直所述探測光束。

7.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述光束準直器為半透鏡。

8.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括：

腔室，具有窗口，并設置在所述旋轉臺上，用以放置所述待測樣品，以及使所述待測樣品在所述腔室內進行制程反應；

其中，在所述旋轉臺的每個旋轉周期內，所述探測光束通過所述窗口后，入射至所述腔室內，并照射在所述待測樣品上。

9.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括：

驅動電機，連接所述旋轉臺，用于驅動所述旋轉臺轉動。

10.一種反射光譜監測方法，其特征在于，包括：

放置待測樣品在旋轉臺上的反應腔內，使所述待測樣品在所述反應腔內進行相應的制程反應；

在所述旋轉臺轉動時，采用光源發射不同波段的探測光束；

在所述旋轉臺的每個旋轉周期內，采用所述探測光束照射在所述待測樣品上；

藉由光譜儀接收所述待測樣品在所述探測光束照射下的反射光束，并根據所述反射光束確定所述待測樣品的反射光譜。