[發明專利]乙氧基柱[6]芳烴晶體材料在選擇性吸附雜環化合物中的應用有效
| 申請號： | 202010138825.5 | 申請日： | 2020-03-03 |
| 公開（公告）號： | CN111362774B | 公開（公告）日： | 2021-01-12 |
| 發明（設計）人： | 黃飛鶴;朱偉杰;李二銳 | 申請（專利權）人： | 浙江大學 |
| 主分類號： | C07C7/12 | 分類號： | C07C7/12;C07C15/06;C07D213/16;C07D333/08;C07C41/30;C07C43/21;B01J20/22;B01J20/34;B01J20/30 |
| 代理公司： | 杭州天勤知識產權代理有限公司 33224 | 代理人： | 胡紅娟 |
| 地址： | 310013 浙江*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基柱 芳烴 晶體 材料 選擇性 吸附 雜環化合物 中的 應用 | ||
1.乙氧基柱[6]芳烴晶體材料在選擇性吸附雜環化合物中的應用，其特征在于，所述雜環化合物為吡啶、2-甲基噻吩、3-甲基噻吩中的至少一種，所述乙氧基柱[6]芳烴晶體材料的結構式如下：
2.一種甲苯和雜環化合物的分離方法，其特征在于，利用乙氧基柱[6]芳烴晶體材料吸附分離甲苯和雜環化合物的混合物，所述雜環化合物為吡啶、2-甲基噻吩、3-甲基噻吩中的至少一種，所述乙氧基柱[6]芳烴晶體材料的結構式如下：
3.根據權利要求2所述的甲苯和雜環化合物的分離方法，其特征在于，所述乙氧基柱[6]芳烴晶體材料的制備方法包括：將對苯二乙醚加入三氯甲烷溶劑中，加入路易斯酸，25～30℃下反應20～30分鐘，反應結束后用碳酸氫鈉飽和溶液淬滅，經水洗分液濃縮后得粗產物，粗產物經柱層析分離、干燥活化得到所述乙氧基柱[6]芳烴晶體材料。
4.根據權利要求2所述的甲苯和雜環化合物的分離方法，其特征在于，所述甲苯和雜環化合物的分離方法具體為：將乙氧基柱[6]芳烴晶體材料置于甲苯和雜環化合物的混合蒸氣氛圍內，溫度為20～30℃，吸附時間根據雜環化合物達到吸附飽和的時間而定。
5.根據權利要求4所述的甲苯和雜環化合物的分離方法，其特征在于，所述混合蒸氣中甲苯和雜環化合物的體積比為1:99～99:1。
6.根據權利要求2所述的甲苯和雜環化合物的分離方法，其特征在于，采用常壓加熱或減壓加熱的方式除去乙氧基柱[6]芳烴晶體材料表面吸附的甲苯和雜環化合物的混合物。
7.根據權利要求6所述的甲苯和雜環化合物的分離方法，其特征在于，所述常壓加熱或減壓加熱的溫度為30～50℃。
8.根據權利要求2所述的甲苯和雜環化合物的分離方法，其特征在于，采用真空加熱的方式脫附乙氧基柱[6]芳烴晶體材料吸附絡合的雜環化合物。
9.根據權利要求8所述的甲苯和雜環化合物的分離方法，其特征在于，所述真空加熱的溫度為100～140℃。
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