[發明專利]一種鉬鋁兼容蝕刻液及蝕刻方法

在審

• 申請號: 202010138777.X
• 申請日: 2020-03-03
• 公開（公告）號: CN111270238A
• 公開（公告）日: 2020-06-12
• 發明（設計）人: 戈士勇
• 申請（專利權）人: 江蘇中德電子材料科技有限公司
• 主分類號: C23F1/44
• 分類號: C23F1/44
• 代理公司: 江陰義海知識產權代理事務所(普通合伙) 32247
• 代理人: 陳巧云

1.一種鉬鋁兼容蝕刻液，其特征在于，包括磷酸、硝酸、醋酸、氯酸、表面活性劑、金屬抑制劑、助劑和水；以所述鉬鋁兼容蝕刻液的總重量為基準，所述磷酸的含量為60-68％、硝酸的含量為2.5-3％、醋酸的含量為19-25％、氯酸的含量為2-5％，表面活性劑的含量為2-10％、金屬抑制劑的含量為0.8-1.2％、所述助劑的含量為2-5％，余量為水；所述金屬抑制劑包括鉬酸鹽、甲基苯駢三氮唑鈉、二巰基噻二唑二鈉鹽中的至少一種。

2.根據權利要求1所述的鉬鋁兼容蝕刻液，其特征在于，所述蝕刻液中還包括3-6g/L的氯酸鉀。

3.根據權利要求2所述的鉬鋁兼容蝕刻液，其特征在于，所述金屬抑制劑中各組分的摩爾比為鉬酸鹽：甲基苯駢三氮唑鈉：二巰基噻二唑二鈉鹽＝1:1-1.2:0.8-1。

4.根據權利要求3所述的鉬鋁兼容蝕刻液，其特征在于，所述表面活性劑包括椰油酸單乙醇酰胺、椰油酸二乙醇酰胺、月桂酰胺丙基二甲胺乙內酯、檸檬酸三丁酯中的至少兩種。

5.根據權利要求4所述的鉬鋁兼容蝕刻液，其特征在于，所述助劑包括對羥基苯甲酸、檸檬酸鈉、脂肪胺、苯并三氮唑中的至少一種。

6.根據權利要求5所述的鉬鋁兼容蝕刻液，其特征在于，所述鉬酸鹽包括鉬酸銨、鉬酸鈉、鉬酸鉀、磷鉬酸銨、硅鉬酸銨中的至少一種。

7.根據權利要求6所述的鉬鋁兼容蝕刻液，其特征在于，所述蝕刻液的PH值為1-2.5。

8.一種蝕刻方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1：提供待蝕刻產品；所述待蝕刻產品由上至下至少包括鉬層和抗蝕刻層；

S2：將待蝕刻的產品浸入權利要求1-7中任意一項所述的鉬鋁兼容蝕刻液中進行蝕刻處理。

9.根據權利要求8所述的蝕刻方法，其特征在于，所述待蝕刻產品由上至下包括鉬層、鋁層和抗蝕刻層；或者包括鉬層、鋁層、鉬層和抗蝕刻層。

10.根據權利要求9所述的蝕刻方法，其特征在于，所述蝕刻處理的溫度為45-50℃，時間為40-60s。