[發明專利]一種抗氧化銅納米線及其制備方法和在制備PEEK復合材料中的應用有效
| 申請號： | 202010138038.0 | 申請日： | 2020-03-03 |
| 公開（公告）號： | CN111318719B | 公開（公告）日： | 2023-04-18 |
| 發明（設計）人： | 張晟卯;范淑光;張玉娟;高傳平;張平余;張治軍 | 申請（專利權）人： | 河南大學 |
| 主分類號： | B22F9/24 | 分類號： | B22F9/24;B22F1/0545;C08L61/16;C08K7/00;C08K3/22;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 鄭州聯科專利事務所(普通合伙) 41104 | 代理人： | 楊海霞 |
| 地址： | 475001*** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 氧化銅 納米 及其 制備 方法 peek 復合材料 中的 應用 | ||
【權利要求書】：
1.一種抗氧化銅納米線的制備方法，其特征在于，將銅源、堿性溶液、導向劑和還原劑混勻，然后于30-100℃條件下反應至少1?h，得到懸浮在溶液中的絮狀物即為抗氧化銅納米線；其中，所述還原劑為葡萄糖、果糖中的一種或兩種任意比例的混合物；
銅源為氫氧化銅和氧化銅中的一種或兩種的組合，銅源濃度控制在0.005-0.5?mol/L；
所述堿性溶液為氫氧化鈉和氫氧化鉀中的一種或兩種的組合，堿性溶液濃度控制在4-15?mol/L；
所述導向劑為乙二胺和/或多乙烯多胺，導向劑濃度控制在0.02-4?mol/L；
所述還原劑濃度控制在0.02-1.0?mol/L；
制備的銅納米線靜置在空氣中30-100天仍然未出現氧化。
2.如權利要求1所述抗氧化銅納米線的制備方法，其特征在于：所述多乙烯多胺為二乙烯三胺、三乙烯四胺和四乙烯五胺中的一種或兩種以上任意比例的混合物。
3.采用權利要求1至2任一所述制備方法制備得到的抗氧化銅納米線。
4.權利要求3所述抗氧化銅納米線在制備PEEK復合材料中的應用。
5.如權利要求4所述抗氧化銅納米線在制備PEEK復合材料中的應用，其特征在于：在制備PEEK復合材料時，按0.1-3?vol%的比例添加抗氧化銅納米線。
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