[發明專利]投射控制方法、存儲介質及投射機

在審

• 申請號: 202010137411.0
• 申請日: 2020-03-02
• 公開（公告）號: CN111367335A
• 公開（公告）日: 2020-07-03
• 發明（設計）人: 陳雷平;戴穎倩;賀達江;丁黎明;明衛瑩
• 申請（專利權）人: 懷化學院
• 主分類號: G05D27/02
• 分類號: G05D27/02;G01C11/02;A63B69/40;G06T7/73
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 蔣姍

1.一種投射控制方法，其特征在于，所述方法包括：

從獲得的圖像中確定出目標圖像區域，所述目標圖像區域為投射機投射物品的目標投射區域在所述圖像中表示的區域；

根據所述目標圖像區域，確定出所述投射機與所述目標投射區域之間的角度和距離；

根據所述投射機與所述目標投射區域之間的角度和距離，確定出投射角度參數和投射力度參數，以調整所述投射機向所述目標投射區域投射物品的投射角度和投射力度。

2.根據權利要求1所述的投射控制方法，其特征在于，所述從獲得的圖像中確定出目標圖像區域，包括：

獲得圖像中包含所述目標投射區域的圖像；

從所述圖像中檢測所述目標投射區域，確定出所述目標圖像區域。

3.根據權利要求2所述的投射控制方法，其特征在于，所述目標投射區域設有區域標識，所述從所述圖像中檢測所述目標投射區域，確定出所述目標圖像區域，包括：

從所述圖像中檢測并確定出所述區域標識；

確定出所述區域標識在所述圖像中對應的區域范圍，所述區域范圍為所述目標圖像區域。

4.根據權利要求3所述的投射控制方法，其特征在于，所述目標投射區域為矩形，多個所述區域標識分別設置在所述目標投射區域的四個頂點區域，且每個所述區域標識為規則圖形，所述確定出所述區域標識在所述圖像中對應的區域范圍，包括：

從所述圖像中檢測所述區域標識的輪廓；

確定出所述輪廓的中心在所述圖像中的坐標，其中，所述中心在所述圖像中的坐標表示所述區域標識在所述圖像中的圖像坐標；

以每個所述區域標識的所述圖像坐標為頂點確定出圖形區域，所述圖形區域為所述區域標識在所述圖像中對應的區域范圍。

5.根據權利要求4所述的投射控制方法，其特征在于，所述根據所述目標圖像區域，確定出投射機與目標投射區域之間的角度和距離，包括：

根據確定出的每個所述區域標識的圖像坐標和預設的轉換關系，確定出所述目標投射區域在所述三維空間中的多個三維坐標，其中，所述預設的轉換關系為三維空間中的區域與機器視覺圖像中的同一區域之間的坐標位置轉換關系；

在所述三維空間中確定出以所述多個三維坐標為頂點的目標區域；

確定出所述目標區域與所述投射機在所述三維空間中的角度和距離。

6.根據權利要求1所述的投射控制方法，其特征在于，所述根據所述投射機與所述目標投射區域之間的角度和距離，確定出投射角度參數和投射力度參數，包括：

根據所述投射機與所述目標投射區域之間的距離和預設的距離與投射力度參數的對應關系，確定出投射物品至所述目標投射區域的投射力度參數；

根據所述投射機與所述目標投射區域之間的角度和預設的角度與投射角度參數的對應關系，確定出投射物品至所述目標投射區域的投射角度參數。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的投射控制方法，其特征在于，在所述方法應用于所述投射機時，在所述確定出投射角度參數和投射力度參數之后，所述方法還包括：

將所述投射機的投射角度調整至所述投射角度參數對應的目標投射角度；

以及，將所述投射機的投射力度調整至所述投射力度參數對應的目標投射力度。

8.根據權利要求7所述的投射控制方法，其特征在于，所述方法還包括：

獲取設定的接物難度系數，并確定出與所述接物難度系數對應的角度調整參數；

將所述投射機的投射角度調整為：以所述投射角度參數對應的投射角度為中心，以所述角度調整參數對應的范圍值為半徑的隨機投射角度范圍；以及/或者，

獲取設定的接物難度系數，并確定出與所述接物難度系數對應的力度調整參數；

將所述投射機的投射力度調整為：以所述投射力度參數對應的投射力度為基礎，以所述力度調整參數對應的范圍值為界限的隨機投射力度范圍。