[發明專利]一種轉印版及其制備方法、顯示基板、顯示面板

在審

• 申請號: 202010136366.7
• 申請日: 2020-03-02
• 公開（公告）號: CN111208658A
• 公開（公告）日: 2020-05-29
• 發明（設計）人: 胡金良;詹成勇;馬健;任文明;張然
• 申請（專利權）人: 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;G02F1/1337;G02F1/1339;G03F7/00
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種轉印版，其特征在于，具有第一區域和呈封閉狀環繞所述第一區域一周的第二區域；

所述轉印版包括襯底、依次層疊設置于所述襯底上的第一載液層和第二載液層；

所述第一載液層包括多個位于所述第一區域的第一凹槽，所述第二載液層包括多個位于所述第一區域和所述第二區域的第二凹槽；

在所述第一區域，所述第一凹槽與所述第二凹槽一一對應，所述第二凹槽貫穿所述第二載液層，且所述第一凹槽在所述襯底上的正投影和與其對應的所述第二凹槽在所述襯底上的正投影重疊。

2.根據權利要求1所述的轉印版，其特征在于，在所述第二區域，沿所述第一區域與所述第二區域的距離方向，所述第二凹槽的深度逐漸變大。

3.根據權利要求1或2所述的轉印版，其特征在于，所述第一凹槽的深度小于所述第一載液層的厚度。

4.根據權利要求3所述的轉印版，其特征在于，所述第一載液層和所述第二載液層的材料為負性光刻膠；

所述第一載液層的材料的中心波長為254nm和365nm，所述第二載液層的中心波長為254nm或365nm。

5.一種顯示基板，其特征在于，包括取向層，所述取向層由權利要求1-4任一項所述的轉印版制備得到；

第一區域為所述顯示基板的顯示區。

6.一種顯示面板，其特征在于，包括權利要求5所述的顯示基板；所述顯示面板還包括設置于對合的所述顯示基板之間的封框膠，所述第二區域位于所述封框膠與顯示區之間。

7.一種轉印版的制備方法，其特征在于，所述轉印版具有第一區域和呈封閉狀環繞所述第一區域一周的第二區域；所述轉印版的制備方法包括：

在襯底上依次形成第一載液薄膜和第二載液薄膜；

對所述第二載液薄膜和所述第一載液薄膜進行光刻處理，分別得到第二載液層和第一載液層；所述第一載液層包括多個位于所述第一區域的第一凹槽，所述第二載液層包括多個位于所述第一區域和所述第二區域的第二凹槽；在所述第一區域，所述第一凹槽與所述第二凹槽一一對應，所述第二凹槽貫穿所述第二載液層，且所述第一凹槽在所述襯底上的正投影和與其對應的所述第二凹槽在所述襯底上的正投影重疊。

8.根據權利要求7所述的轉印版的制備方法，其特征在于，所述第一載液層和所述第二載液層的材料為負性光刻膠；

對所述第二載液薄膜和所述第一載液薄膜進行光刻處理，包括：

在所述襯底背離所述第一載液薄膜一側形成第一掩模板，并對所述第一載液薄膜進行曝光；所述第一掩模板的第一保留區與待形成的所述第一凹槽和所述第二區域對應，第一去除區與所述第一載液層的其他區域對應；

在所述第二載液薄膜背離所述襯底一側形成第二掩模板，并依次對所述第二載液薄膜和所述第一載液薄膜進行曝光、顯影；所述第二掩模板的第二去除區與待形成的所述第二凹槽對應、第二保留區與待形成的所述第二載液層的其他區域對應。

9.根據權利要求8所述的轉印版的制備方法，其特征在于，在形成所述第一載液薄膜和所述第二載液薄膜之后、形成所述第一掩模板之前，所述轉印版的制備方法還包括：

確定所述第一載液薄膜和所述第二載液薄膜的厚度。

10.根據權利要求9所述的轉印版的制備方法，其特征在于，確定所述第一載液薄膜和所述第二載液薄膜的厚度，包括：

采用預曝光的方式，確定所述第一載液薄膜和所述第二載液薄膜的厚度。

11.根據權利要求8-10任一項所述的轉印版的制備方法，其特征在于，在所述第二區域，沿所述第一區域與所述第二區域的距離方向，所述第二掩模板的尺寸逐漸變大。

12.根據權利要求8-10任一項所述的轉印版的制備方法，其特征在于，所述第一載液層的材料的中心波長為254nm和365nm，所述第二載液層的中心波長為254nm或365nm。