[發(fā)明專(zhuān)利]一種非制冷光學(xué)讀出式紅外熱成像系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010136070.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-03-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111380829A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-07-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王敏;李松 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 南方科技大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N21/35 | 分類(lèi)號(hào): | G01N21/35 |
| 代理公司: | 深圳市君勝知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 劉芙蓉;劉文求 |
| 地址: | 518055 廣東省深圳*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 制冷 光學(xué) 讀出 紅外 成像 系統(tǒng) | ||
1.一種非制冷光學(xué)讀出式紅外熱成像系統(tǒng),其特征在于,包括從前至后依次排列的前端結(jié)構(gòu)、激發(fā)光源和后端結(jié)構(gòu),所述前端結(jié)構(gòu)包括真空腔以及位于所述真空腔內(nèi)且從前至后依次設(shè)置的透鏡、紅外探測(cè)陣列、樣品臺(tái)及后視鏡,所述透鏡、所述紅外探測(cè)陣列及所述樣品臺(tái)和所述后視鏡的中心位置均在同一直線(xiàn)上,所述紅外探測(cè)陣列包括若干個(gè)探測(cè)單元,所述探測(cè)單元包括下至上依次設(shè)置的支撐結(jié)構(gòu)、溫敏發(fā)光層、反射層、吸收層以及硅微透鏡。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非制冷光學(xué)讀出式紅外熱成像系統(tǒng),其特征在于,所述樣品臺(tái)為中間鏤空平面,所述樣品臺(tái)底部設(shè)置有支腳,所述支腳固定設(shè)置在所述真空腔的內(nèi)壁上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的非制冷光學(xué)讀出式紅外熱成像系統(tǒng),其特征在于,所述紅外探測(cè)陣列設(shè)置在所述樣品臺(tái)的鏤空部位上方。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非制冷光學(xué)讀出式紅外熱成像系統(tǒng),其特征在于,所述透鏡為鍺紅外非球面透鏡。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非制冷光學(xué)讀出式紅外熱成像系統(tǒng),其特征在于,所述溫敏發(fā)光層的材料為溫敏漆材料。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非制冷光學(xué)讀出式紅外熱成像系統(tǒng),其特征在于,所述吸收層材料為多孔鉻。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非制冷光學(xué)讀出式紅外熱成像系統(tǒng),其特征在于,所述反射層材料為鋁。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非制冷光學(xué)讀出式紅外熱成像系統(tǒng),其特征在于,所述后視鏡為高透射率石英玻璃。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非制冷光學(xué)讀出式紅外熱成像系統(tǒng),其特征在于,所述后端結(jié)構(gòu)包括濾波片、鏡頭、CCD相機(jī)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的非制冷光學(xué)讀出式紅外熱成像系統(tǒng),其特征在于,所述濾波片為帶通濾波片。
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- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專(zhuān)用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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