[發(fā)明專利]一種余熱利用的灶具

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010135738.4
• 申請日: 2020-03-02
• 公開（公告）號: CN111256171A
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 曹開銀;麥均叨;李宗洋;潘葉江
• 申請（專利權(quán)）人: 華帝股份有限公司
• 主分類號: F24C3/08
• 分類號: F24C3/08;F24C15/10;F24C15/34;F24H1/00
• 代理公司: 中山奇昱專利代理事務(wù)所(普通合伙) 44557
• 代理人: 黃國清

1.一種余熱利用的灶具，包括灶具本體(1)，所述灶具本體(1)具有燃燒器本體(2)，其特征在于，還包括支架組件，所述支架組件包括鍋支架(4)和底架(5)，其中所述鍋支架(4)設(shè)置于所述底架(5)上以用于支承鍋具，所述底架(5)設(shè)置于所述灶具本體(1)上且環(huán)繞設(shè)置于所述燃燒器本體(2)的外圍，烹飪過程中，所述燃燒器本體(2)產(chǎn)生熱量對所述鍋具進行加熱，同時，所述燃燒器本體(2)往外側(cè)散發(fā)的熱量被所述底架(5)吸收。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種余熱利用的灶具，其特征在于，在所述底架(5)的底部設(shè)置有支撐腳(51)以用于支承所述底架(5)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種余熱利用的灶具，其特征在于，所述支撐腳(51)的數(shù)量為多個，多個所述支撐腳(51)沿所述底架(5)底部的周長方向間隔設(shè)置以在相鄰的兩所述支撐腳(51)之間形成二次進風(fēng)通道。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種余熱利用的灶具，其特征在于，還包括盛液盤(6)，所述盛液盤(6)設(shè)置于所述灶具本體(1)上且套設(shè)于所述燃燒器本體(2)的外側(cè)，所述底架(5)通過所述支撐腳(51)設(shè)置于所述盛液盤(6)上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種余熱利用的灶具，其特征在于，所述底架(5)具有容納腔(52)，所述燃燒器本體(2)的火焰對所述容納腔(52)內(nèi)所盛放的液體進行輻射加熱。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種余熱利用的灶具，其特征在于，還包括蓋板(7)，所述蓋板(7)可拆卸地設(shè)置于所述容納腔(52)上。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種余熱利用的灶具，其特征在于，所述底架(5)具有底板(53)和分別設(shè)置于所述底板(53)兩側(cè)的內(nèi)側(cè)板(54)、外側(cè)板(55)，所述內(nèi)側(cè)板(54)位于所述底板(53)在接近于所述燃燒器本體(2)的一側(cè)，通過所述內(nèi)側(cè)板(54)、所述底板(53)和所述外側(cè)板(55)依次連接以共同限定出所述容納腔(52)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種余熱利用的灶具，其特征在于，所述鍋支架(4)的數(shù)量為多個，多個所述鍋支架(4)間隔設(shè)置于所述內(nèi)側(cè)板(54)上。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8任一所述的一種余熱利用的灶具，其特征在于，所述鍋支架(4)頂部的高度高于所述底架(5)頂部的高度。